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偏滤器靶板的侵蚀及杂质输运沉积的模拟研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
目录第9-12页
CONTENTS第12-14页
图表目录第14-17页
主要符号表第17-18页
1 绪论第18-36页
    1.1 聚变能源的研究意义第19-22页
    1.2 边缘等离子体和等离子体与器壁相互作用介绍第22-27页
        1.2.1 边缘等离子体第22-23页
        1.2.2 等离子体与器壁相互作用第23-25页
        1.2.3 面向等离子体材料的选取第25-27页
    1.3 关于边缘等离子体研究的几个问题第27-34页
        1.3.1 杂质输运沉积第27-31页
        1.3.2 粗糙表面对侵蚀和沉积的影响第31-32页
        1.3.3 边缘局域模轰击靶板能流的研究第32-34页
    1.4 本文研究内容介绍第34-36页
2 偏滤器靶板附近的杂质输运研究第36-49页
    2.1 引言第36页
    2.2 理论模型和数值方法第36-42页
        2.2.1 理论模型第36-39页
        2.2.2 数值方法第39-42页
    2.3 模拟结果和讨论第42-48页
    2.4 小结第48-49页
3 偏滤器瓦片间隙内的杂质沉积研究第49-68页
    3.1 引言第49页
    3.2 理论模型和数值方法第49-51页
        3.2.1 理论模型第49-51页
        3.2.2 数值方法第51页
    3.3 模拟结果和讨论第51-66页
    3.4 小结第66-68页
4 粗糙表面对杂质沉积影响的研究第68-87页
    4.1 引言第68页
    4.2 理论模型和数值方法第68-75页
        4.2.1 ERO程序第68-73页
        4.2.2 SURO程序第73-75页
    4.3 模拟结果和讨论第75-85页
        4.3.1 ERO模拟:计算在TEXTOR装置中~(13)CH_4注入实验的返回表面的13~C物种的名义角和能量第77页
        4.3.2 SURO模拟:计算局域角第77-78页
        4.3.3 ~(13)C粒子流比率的影响第78-82页
        4.3.4 背景~(12)C浓度的影响第82-83页
        4.3.5 计算TEXTOR和ITER装置上的表面平滑化的辐照时间第83-85页
    4.4 小结第85-87页
5 边缘局域模对靶板侵蚀的动力学模拟研究第87-104页
    5.1 引言第87-88页
    5.2 理论模型和数值方法第88-95页
        5.2.1 初始化第89页
        5.2.2 粒子云分室法第89-90页
        5.2.3 求解泊松方程得到电势和电场第90页
        5.2.4 带电粒子运动第90-91页
        5.2.5 碰撞的处理第91页
        5.2.6 等离子体与器壁相互作用第91-93页
        5.2.7 热传导模型第93-95页
    5.3 模拟结果和讨论第95-102页
        5.3.1 ELMs持续时间为200μs的情况第95-99页
        5.3.2 ELMs持续时间为50μs的情况第99-101页
        5.3.3 ELMs持续时间为100μs的情况第101-102页
    5.4 小结第102-104页
6 结论与展望第104-108页
    6.1 结论第104-106页
    6.2 创新点摘要第106-107页
    6.3 展望第107-108页
参考文献第108-122页
攻读博士学位期间科研项目及科研成果第122页
攻读博士学位期间参与的科研项目第122-124页
致谢第124-125页
作者简介第125-126页

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