| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·研究意义 | 第10-11页 |
| ·Ti-Al-N 硬质涂层的制备方法 | 第11-14页 |
| ·CVD 法 | 第11页 |
| ·磁控溅射法 | 第11-12页 |
| ·空心阴极离子镀法 | 第12页 |
| ·多弧离子镀法 | 第12-14页 |
| ·Ti-Al-N 硬质涂层的研究现状及进展 | 第14-18页 |
| ·TiAlN 涂层晶体结构及力学性能 | 第14-15页 |
| ·TiAlN 涂层抗氧化性能 | 第15-16页 |
| ·涂层的合金化发展 | 第16页 |
| ·涂层多层化及纳米复合化发展 | 第16-18页 |
| ·本研究的内容及创新 | 第18-20页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第18页 |
| ·本论文研究的主要创新点 | 第18-20页 |
| 第二章 试验设备和方法 | 第20-26页 |
| ·试验材料 | 第20页 |
| ·多弧离子镀设备 | 第20-21页 |
| ·涂层沉积基本工艺步骤 | 第21-23页 |
| ·性能检测 | 第23-26页 |
| ·结合强度测定 | 第23-24页 |
| ·硬度的检测 | 第24页 |
| ·涂层表面形貌、成分、截面形貌成分及断口组织的观察 | 第24页 |
| ·涂层的物相检测 | 第24-25页 |
| ·涂层高温抗氧化性能 | 第25-26页 |
| 第三章 制备工艺的研究 | 第26-37页 |
| ·涂层制备工艺正交试验 | 第26-31页 |
| ·正交试验方案 | 第26页 |
| ·沉积工艺 | 第26-27页 |
| ·正交试验结果及其分析 | 第27-30页 |
| ·优化工艺条件下涂层表面及断口形貌观察 | 第30-31页 |
| ·基体负偏压对涂层的影响 | 第31-33页 |
| ·偏压对涂层力学性能的影响 | 第31-32页 |
| ·偏压对涂层表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·靶电流对涂层的影响 | 第33-36页 |
| ·靶电流对涂层力学性能的影响 | 第33-34页 |
| ·靶电流对涂层厚度及表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·N_2 气压对涂层的影响 | 第36页 |
| ·N_2 气压对涂层力学性能的影响 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 Al 含量及结构对涂层组织及力学性能的影响 | 第37-52页 |
| ·涂层的制备 | 第37-38页 |
| ·涂层的表面形貌 | 第38-40页 |
| ·涂层的截面形貌 | 第40-43页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN 涂层的截面形貌 | 第40-41页 |
| ·TiN/Ti_(1-x)Al_xN 多层结构涂层截面形貌 | 第41-43页 |
| ·涂层的断口形貌 | 第43-45页 |
| ·涂层的相结构 | 第45-48页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN 涂层的相结构 | 第45-47页 |
| ·TiN/Ti_(1-x)Al_xN 多层结构涂层的相结构分析 | 第47-48页 |
| ·Al 含量及涂层结构对涂层力学性能的影响 | 第48-50页 |
| ·涂层力学性能测试结果 | 第48-49页 |
| ·结果分析讨论 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 Ti-Al-N 系涂层氧化行为研究 | 第52-70页 |
| ·温度对涂层氧化行为的影响 | 第52-56页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN 涂层试样随温度的氧化增重 | 第52-53页 |
| ·Ti_(1-x)Al_xN 涂层氧化显微组织分析 | 第53-56页 |
| ·铝含量及涂层结构对氧化反应动力学参数的影响 | 第56-59页 |
| ·涂层在800℃氧化不同时间的增重 | 第56-59页 |
| ·Ti-Al-N 系涂层氧化行为机理探讨 | 第59-68页 |
| ·涂层氧化试样XRD 物相分析 | 第59-60页 |
| ·涂层氧化试样的表面形貌分析 | 第60-63页 |
| ·涂层氧化试样Fe 元素的截面分布 | 第63-67页 |
| ·涂层在800℃氧化行为机理分析 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 全文结论与展望 | 第70-72页 |
| 1 全文结论 | 第70-71页 |
| 2 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
