中文摘要 | 第3-4页 |
英文摘要 | 第4-5页 |
1 绪论 | 第9-17页 |
1.1 研究背景和意义 | 第9页 |
1.1.1 选题背景 | 第9页 |
1.1.2 课题意义 | 第9页 |
1.2 二氧化锰的应用 | 第9-11页 |
1.2.1 超级电容器 | 第9-10页 |
1.2.2 电池电极材料 | 第10页 |
1.2.3 催化降解污染物 | 第10-11页 |
1.3 二氧化锰的制备方法 | 第11-14页 |
1.3.1 氧化还原法 | 第11-12页 |
1.3.2 水热法 | 第12页 |
1.3.3 溶胶凝胶法 | 第12-13页 |
1.3.4 电沉积法 | 第13页 |
1.3.5 焙烧法 | 第13-14页 |
1.4 二氧化锰的改性 | 第14-16页 |
1.4.1 二氧化锰改性方法 | 第14页 |
1.4.2 二氧化锰复合材料的制备方法 | 第14-16页 |
1.5 本论文研究内容 | 第16-17页 |
2 实验及分析测试方法 | 第17-22页 |
2.1 仪器与试剂 | 第17-18页 |
2.2 结构和性能表征方法 | 第18-22页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第18页 |
2.2.2 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第18-19页 |
2.2.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第19页 |
2.2.4 激光拉曼光谱仪 | 第19页 |
2.2.5 比表面积测试(BET) | 第19页 |
2.2.6 X射线电子能谱分析(XPS) | 第19-20页 |
2.2.7 电化学交流阻抗测试 | 第20页 |
2.2.8 复合催化剂性能表征 | 第20-22页 |
3 二氧化锰/石墨烯复合催化剂的制备 | 第22-34页 |
3.1 二氧化锰/石墨烯复合催化剂的制备 | 第22页 |
3.1.1 氧化石墨烯的制备 | 第22页 |
3.1.2 二氧化锰/氧化石墨烯悬浮液的制备 | 第22页 |
3.1.3 二氧化锰/石墨烯复合催化剂的制备 | 第22页 |
3.2 还原时间对二氧化锰/石墨烯复合催化剂性能的影响 | 第22-28页 |
3.2.1 还原时间对二氧化锰/石墨烯复合催化剂催化性能的影响 | 第22-23页 |
3.2.2 还原时间对二氧化锰/石墨烯复合催化剂晶型的影响 | 第23-25页 |
3.2.3 还原时间对二氧化锰/石墨烯复合催化剂导电性的影响 | 第25-27页 |
3.2.4 还原时间对复合催化剂结构的影响 | 第27-28页 |
3.3 石墨烯掺杂量对二氧化锰/石墨烯复合催化剂性能的影响 | 第28-32页 |
3.3.1 石墨烯掺杂量对二氧化锰/石墨烯复合催化剂催化性能的影响 | 第28-29页 |
3.3.2 石墨烯负载量对二氧化锰/石墨烯复合催化剂吸附性能的影响 | 第29-31页 |
3.3.3 石墨烯负载量对二氧化锰/石墨烯复合催化剂导电性能的影响 | 第31-32页 |
3.4 本章小结 | 第32-34页 |
4 二氧化锰/石墨烯的结构和性能及催化氧化降解罗丹明B影响因素研究 | 第34-46页 |
4.1 MnO_2/rGO复合催化剂的结构研究 | 第34-41页 |
4.1.1 MnO_2/rGO复合催化剂的XRD图谱分析 | 第34-35页 |
4.1.2 MnO_2/rGO复合催化剂的拉曼衍射图谱分析 | 第35-36页 |
4.1.3 MnO_2/rGO复合催化剂的红外谱图分析 | 第36-37页 |
4.1.4 MnO_2/rGO复合催化剂的BET测试分析 | 第37-38页 |
4.1.5 MnO_2/rGO复合催化剂的电化学交流阻抗 | 第38-39页 |
4.1.6 MnO_2/rGO复合催化剂的SEM图分析 | 第39-40页 |
4.1.7 MnO_2/rGO复合催化剂的催化活性 | 第40-41页 |
4.2 反应条件对MnO_2/rGO复合催化剂催化降解罗丹明B效果的影响 | 第41-45页 |
4.2.1 过氧化氢用量对罗丹明B降解率的影响 | 第41-43页 |
4.2.2 催化剂用量对罗丹明B降解率的影响 | 第43-44页 |
4.2.3 罗丹明B初始浓度对罗丹明B降解率的影响 | 第44-45页 |
4.3 本章小结 | 第45-46页 |
5 铈掺杂二氧化锰的制备及其催化活性研究 | 第46-52页 |
5.1 Ce/MnO_2复合催化剂的制备 | 第46页 |
5.2 制备Ce/MnO_2复合催化剂时的影响因素 | 第46-48页 |
5.2.1 焙烧温度对Ce/MnO_2复合催化剂活性的影响 | 第46-47页 |
5.2.2 Ce掺杂量对Ce/MnO_2复合催化剂活性的影响 | 第47-48页 |
5.3 Ce/MnO_2复合催化剂的结构表征 | 第48-51页 |
5.3.1 XRD图谱分析 | 第49-50页 |
5.3.2 XPS图谱分析 | 第50-51页 |
5.4 本章小结 | 第51-52页 |
6 结论与展望 | 第52-54页 |
6.1 结论 | 第52-53页 |
6.2 后续工作展望 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-59页 |
附录 作者在攻读学位期间取得的科研成果目录 | 第59页 |