硼烯的分子束外延生长及扫描隧道显微镜研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 石墨烯 | 第10-14页 |
| 1.1.1 发现石墨烯 | 第10-11页 |
| 1.1.2 石墨烯的结构和能带 | 第11-13页 |
| 1.1.3 石墨烯的新奇物性 | 第13-14页 |
| 1.2 硅烯 | 第14-18页 |
| 1.2.1 理论预言 | 第14页 |
| 1.2.2 实验合成及结构 | 第14-15页 |
| 1.2.3 硅烯的电子结构 | 第15-18页 |
| 1.3 锗烯和锡烯 | 第18-21页 |
| 1.3.1 锗烯 | 第18-20页 |
| 1.3.2 锡烯 | 第20-21页 |
| 1.4 硼烯 | 第21-28页 |
| 1.4.1 硼的低维结构 | 第22-24页 |
| 1.4.2 硼烯理论预言 | 第24-28页 |
| 1.5 其它类石墨烯材料 | 第28-29页 |
| 1.5.1 六角氮化硼 | 第28-29页 |
| 1.5.2 二硫化钼 | 第29页 |
| 1.6 本论文的结构 | 第29-30页 |
| 第二章 实验技术和原理 | 第30-46页 |
| 2.1 实验仪器简介 | 第30-31页 |
| 2.2 超高真空技术 | 第31-32页 |
| 2.3 分子束外延技术 | 第32-35页 |
| 2.4 扫描隧道显微镜 | 第35-44页 |
| 2.4.1 STM的基本原理 | 第35-38页 |
| 2.4.2 STM的基本结构 | 第38-40页 |
| 2.4.3 扫描隧道谱（STS） | 第40-41页 |
| 2.4.4 STM针尖的制备方法 | 第41-42页 |
| 2.4.5 STM针尖的处理方法 | 第42-44页 |
| 2.5 X射线光电子能谱 | 第44-45页 |
| 2.6 低能电子衍射 | 第45-46页 |
| 第三章 硼烯的分子束外延生长及结构 | 第46-76页 |
| 3.1 研究背景 | 第46-48页 |
| 3.2 硼烯的合成 | 第48-51页 |
| 3.3 硼烯的结构 | 第51-57页 |
| 3.4 结构争议 | 第57-58页 |
| 3.5 硼烯的电子结构 | 第58-61页 |
| 3.6 氧化实验 | 第61-64页 |
| 3.7 硼烯的亚稳态结构 | 第64-69页 |
| 3.8 畴界和边界态 | 第69-71页 |
| 3.9 硼烯的研究进展 | 第71-74页 |
| 3.10 本章小结 | 第74-76页 |
| 第四章 硼在Au(111)表面的外延生长 | 第76-86页 |
| 4.1 研究背景 | 第76页 |
| 4.2 B在Au(111)表面的生长 | 第76-82页 |
| 4.2.1 衬底的处理 | 第77页 |
| 4.2.2 加温生长 | 第77-80页 |
| 4.2.3 室温沉积 | 第80-82页 |
| 4.3 硼膜的结构 | 第82-84页 |
| 4.4 本章小结 | 第84-86页 |
| 第五章 硼烯纳米带的分子束外延生长及结构 | 第86-98页 |
| 5.1 研究背景 | 第86-88页 |
| 5.2 硼烯纳米带的制备 | 第88-90页 |
| 5.3 硼烯纳米带的结构 | 第90-95页 |
| 5.4 硼烯纳米带宽度分布 | 第95-96页 |
| 5.5 本章小结 | 第96-98页 |
| 第六章 论文总结 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-112页 |
| 附录A h-BN/Cu(111)表面水接触角测量 | 第112-116页 |
| 攻读博士学位期间学位论文与研究成果 | 第116-118页 |
| 作者简历 | 第118-120页 |
| 致谢 | 第120-121页 |
