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透明导电氧化物ITO薄膜与ITO/Au复合结构的制备及光电特性研究

致谢第5-7页
摘要第7-8页
Abstract第8-9页
1 绪论第13-30页
    1.1 研究背景第13-14页
    1.2 透明导电氧化物研究概述第14-24页
        1.2.1 种透明导电氧化物简要介绍第14-16页
        1.2.2 透明导电氧化物的应用第16-24页
    1.3 基于透明导电氧化物的TCO/Metal复合结构研究概述第24-28页
        1.3.1 TCO/Metal复合结构简要介绍第24-26页
        1.3.2 TCO/Metal复合结构用于等离子体激元领域第26-28页
    1.4 本文主要研究内容和创新意义第28-30页
2 实验设备及测试方法第30-44页
    2.1 引言第30页
    2.2 脉冲激光沉积(PLD)法制备微纳薄膜第30-36页
        2.2.1 脉冲激光沉积制备微纳薄膜原理第30-32页
        2.2.2 脉冲激光沉积设备介绍第32-36页
    2.3 磁控溅射设备制备微纳薄膜第36-39页
        2.3.1 磁控溅射方法沉积薄膜原理第36-37页
        2.3.2 磁控溅射镀膜设备介绍第37-39页
    2.4 ITO微纳结构制备方法第39-40页
    2.5 测试方法第40-43页
        2.5.1 结构分析第40-41页
        2.5.2 薄膜成分测试第41-42页
        2.5.3 光学性能第42页
        2.5.4 电学特性第42-43页
    2.6 本章小结第43-44页
3 透明导电氧化物ITO薄膜的生长及性能研究第44-75页
    3.1 单层透明导电氧化物ITO薄膜的制备第44-46页
        3.1.1 透明导电氧化物ITO薄膜的特性介绍第44-45页
        3.1.2 单层透明导电氧化物ITO薄膜的制备第45-46页
    3.2 ITO薄膜的测试结果与讨论第46-61页
        3.2.1 制备环境对ITO薄膜微结构的影响第46-50页
        3.2.2 制备工艺对ITO薄膜电学性能的影响第50-54页
        3.2.3 制备工艺对ITO薄膜光学性能的影响第54-61页
    3.3 ITO微纳结构的制备与表征第61-74页
        3.3.1 EBL结合ICP-RIE法制备ITO微纳结构第62-68页
        3.3.2 Lift-off工艺制备ITO微纳结构第68-74页
    3.4 本章小结第74-75页
4 基于椭圆偏振光谱技术对ITO薄膜及金薄膜光学特性的研究第75-92页
    4.1 椭圆偏振测量技术第75-79页
        4.1.1 椭圆偏振测量技术基本原理第75-78页
        4.1.2 基于Semilab GES5E椭偏仪简要介绍第78-79页
    4.2 椭圆偏振测试技术的数据分析方法及常用模型第79-83页
        4.2.1 单一材料的几种常用拟合模型第80-82页
        4.2.2 混合材料的拟合模型第82-83页
    4.3 透明导电ITO薄膜,金属Au薄膜及ITO/Au复合薄膜光学性能的椭圆偏振光谱研究第83-91页
        4.3.1 玻璃衬底光学特性研究第83-84页
        4.3.2 玻璃衬底上ITO薄膜的椭圆偏振光谱研究第84-88页
        4.3.3 玻璃衬底上金属Au薄膜的椭圆偏振光谱研究第88-89页
        4.3.4 玻璃衬底上ITO/Au复合薄膜的椭圆偏振光谱研究第89-91页
    4.4 本章小结第91-92页
5 ITO/Au/ITO复合薄膜的光电及等离子体特性研究第92-112页
    5.1 ITO/Au/ITO复合薄膜的制备第93-94页
    5.2 ITO/Au/ITO复合薄膜的测试结果与讨论第94-111页
        5.2.1 ITO/Au/ITO复合薄膜的微结构表征第94-96页
        5.2.2 ITO/Au/ITO复合薄膜表面形貌表征第96-98页
        5.2.3 ITO/Au/ITO复合薄膜表面形貌表征第98-99页
        5.2.4 ITO/Au/ITO复合薄膜光学特性表征第99-105页
        5.2.5 ITO/Au/ITO的等离子体特性研究第105-111页
    5.3 本章小结第111-112页
参考文献第112-129页
攻读博士学位期间主要的研究成果第129-130页
作者简介第130页

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