基于温和等离子体技术的石墨烯层数精确控制及其性质研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| 1.1 石墨烯的发现 | 第7-8页 |
| 1.2 石墨烯的性质及应用 | 第8-11页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第11-14页 |
| 1.3.1 微机械剥离法 | 第11页 |
| 1.3.2 氧化还原法 | 第11-12页 |
| 1.3.3 热分解碳化硅法 | 第12-13页 |
| 1.3.4 化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| 1.4 石墨烯层数控制的研究及挑战 | 第14-15页 |
| 1.5 论文主要内容及组织架构 | 第15-16页 |
| 第二章 非平行板式电容耦合温和等离子体技术 | 第16-23页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 等离子体原理 | 第16-19页 |
| 2.2.1 等离子体的产生与形成 | 第16-18页 |
| 2.2.2 等离子体放电模式 | 第18-19页 |
| 2.3 非平行板式电容耦合等离子体 | 第19-22页 |
| 2.3.1 温和等离子体原理与系统 | 第19-21页 |
| 2.3.2 温和等离子体系统的先进性 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 温和等离子体及热退火对石墨烯的刻蚀研究 | 第23-39页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 实验流程 | 第23-26页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第23页 |
| 3.2.2 等离子体刻蚀流程 | 第23-25页 |
| 3.2.3 热退火对石墨烯的影响 | 第25-26页 |
| 3.3 石墨烯层数的判断方法 | 第26-30页 |
| 3.3.1 光学显微镜 | 第26-27页 |
| 3.3.2 拉曼光谱 | 第27-29页 |
| 3.3.3 原子力显微镜 | 第29-30页 |
| 3.4 实验参数对刻蚀效果的影响 | 第30-34页 |
| 3.4.1 先驱气体 | 第30-31页 |
| 3.4.2 温度 | 第31页 |
| 3.4.3 等离子体功率密度 | 第31-32页 |
| 3.4.4 刻蚀时间 | 第32-34页 |
| 3.5 实验机理 | 第34-38页 |
| 3.5.1 等离子体刻蚀机理 | 第34-36页 |
| 3.5.2 热退火机理 | 第36-38页 |
| 3.6 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 石墨烯层数精确控制与表征 | 第39-46页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 快速模式刻蚀 | 第39-40页 |
| 4.3 精细模式刻蚀 | 第40-42页 |
| 4.4 基于精细模式刻蚀的石墨烯逐层刻蚀 | 第42-45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 总结与展望 | 第46-48页 |
| 5.1 总结 | 第46页 |
| 5.2 展望 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 附录: 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第53页 |
