| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第13-14页 |
| 2 文献综述 | 第14-37页 |
| 2.1 自旋热电子学简介 | 第14-26页 |
| 2.1.1 自旋热电子学的由来、展望及分类 | 第14-15页 |
| 2.1.2 金属磁性材料中独立的电子、自旋效应 | 第15-18页 |
| 2.1.3 集合效应 | 第18-24页 |
| 2.1.4 相对效应 | 第24-25页 |
| 2.1.5 关于一些效应命名的阐述 | 第25-26页 |
| 2.2 氧化物/磁性金属界面对自旋相关输运性质的影响 | 第26-30页 |
| 2.2.1 磁性金属/Al_2O_3界面 | 第26-27页 |
| 2.2.2 磁性金属/SiO_2界面 | 第27页 |
| 2.2.3 磁性金属/CoO界面 | 第27-28页 |
| 2.2.4 磁性金属/MgO界面 | 第28-30页 |
| 2.3 磁各向异性简介 | 第30-35页 |
| 2.3.1 磁晶各向异性 | 第30-33页 |
| 2.3.2 形状磁各向异性 | 第33页 |
| 2.3.3 感生磁各向异性 | 第33-34页 |
| 2.3.4 磁弹各向异性 | 第34页 |
| 2.3.5 交换磁各向异性 | 第34-35页 |
| 2.3.6 界面磁各向异性 | 第35页 |
| 2.4 NiTi形状记忆合金简介 | 第35-36页 |
| 2.5 本论文研究动机和意义 | 第36-37页 |
| 3 样品制备及分析测试方法 | 第37-45页 |
| 3.1 样品制备 | 第37-41页 |
| 3.1.1 磁控溅射方法制备磁性薄膜 | 第37-38页 |
| 3.1.2 正胶光刻工艺制备样品元件 | 第38-40页 |
| 3.1.3 薄膜的热处理过程 | 第40-41页 |
| 3.2 样品性能测试及表征 | 第41-45页 |
| 3.2.1 样品温差电性能测试——自制真空温差电信号测试装置 | 第41-42页 |
| 3.2.2 样品磁性能测试——振动样品磁强计 | 第42-43页 |
| 3.2.3 样品显微结构表征——透射电子显微镜 | 第43-44页 |
| 3.2.4 样品表面元素化学状态表征——X射线光电子能谱 | 第44-45页 |
| 4 MgO包覆的NiFe薄膜在温差作用下的自旋相关输运行为 | 第45-54页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 实验方法 | 第45-47页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第47-53页 |
| 4.3.1 平行于温差方向:各向异性磁温差电效应及NiFe/MgO界面变化对其的影响 | 第47-51页 |
| 4.3.2 垂直于温差方向:平面能斯特效应 | 第51-53页 |
| 4.4 小结 | 第53-54页 |
| 5 NiFe薄膜在温差和电流共同作用下的自旋相关输运现象 | 第54-64页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 实验方法 | 第54-56页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第56-63页 |
| 5.3.1 温差增强磁电阻效应(ThMR)的发现 | 第56-59页 |
| 5.3.2 电流(或温差)操控NiFe薄膜ThMR值的实现 | 第59-63页 |
| 5.4 小结 | 第63-64页 |
| 6 利用Au插层改善Co/Ni多层膜在热处理后磁性能下降情况的研究 | 第64-71页 |
| 6.1 引言 | 第64-65页 |
| 6.2 实验方法 | 第65-67页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第67-70页 |
| 6.4 小结 | 第70-71页 |
| 7 NiTi形状记忆合金基底/Fe 薄膜复合材料在温度控制下的磁各向异性变化研究 | 第71-84页 |
| 7.1 引言 | 第71-72页 |
| 7.2 实验方法 | 第72-77页 |
| 7.3 结果与讨论 | 第77-83页 |
| 7.3.1 单程NiTi基底/Fe薄膜在升温时不可逆的磁各向异性变化 | 第77-81页 |
| 7.3.2 双程NiTi基底/Fe薄膜在循环温控下可逆的磁各向异性变化 | 第81-83页 |
| 7.4 小结 | 第83-84页 |
| 8 结论 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-99页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第99-102页 |
| 学位论文数据集 | 第102页 |
