| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·光催化及光电催化水分解 | 第11-14页 |
| ·纳米结构半导体材料 | 第14-17页 |
| ·共催化剂(Cocatalyst) | 第17-18页 |
| ·异质结(Heterojunction) | 第18-21页 |
| ·共催化剂基异质结 | 第19页 |
| ·碳三氮四基异质结 | 第19-20页 |
| ·石墨烯基异质结 | 第20-21页 |
| ·光催化材料研究现状 | 第21-22页 |
| ·产氧电催化剂研究现状 | 第22-24页 |
| ·钴磷产氧催化剂 | 第23-24页 |
| ·石墨烯基电催化剂 | 第24页 |
| ·本文主要研究内容 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第2章 实验制备及分析方法综述 | 第29-40页 |
| ·X射线吸收精细结构(XAFS)简介 | 第29-31页 |
| ·XAFS基本理论简介 | 第29-30页 |
| ·XAFS技术应用进展 | 第30-31页 |
| ·低维及复合材料制备方法 | 第31-36页 |
| ·二维材料制备方法 | 第31-33页 |
| ·复合材料制备方法 | 第33-36页 |
| ·性能表征方法 | 第36-38页 |
| ·光解水性能测试系统 | 第36页 |
| ·电化学分析方法 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 第3章 g-C_3N_4纳米片负载钴磷催化剂的光解水性能研究 | 第40-49页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·碳三氮四纳米片制备方法 | 第41页 |
| ·负载钻磷催化剂的碳三氮四纳米片制备方法 | 第41-42页 |
| ·测试仪器 | 第42页 |
| ·结果和讨论 | 第42-46页 |
| ·结构表征 | 第42-44页 |
| ·光催化产氢性能测试 | 第44-45页 |
| ·产氢性能提升机制探索 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第4章 石墨烯基羟基氧化铁纳米片电催化性能研究 | 第49-61页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·制备方法 | 第50-51页 |
| ·实验仪器 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-59页 |
| ·结构表征 | 第51-55页 |
| ·XAFS分析 | 第55-57页 |
| ·性能测试 | 第57-58页 |
| ·交流阻抗谱分析 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第5章 总结与展望 | 第61-65页 |
| ·总结 | 第61-62页 |
| ·展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 在读期间所发表的研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |