摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-13页 |
第一章 绪论 | 第13-21页 |
·研究背景 | 第13页 |
·降低二氧化碳排放方法 | 第13-14页 |
·CO_2的分子结构及其性质 | 第14页 |
·光催化还原CO_2的研究进展 | 第14-16页 |
·石墨烯的性质 | 第16页 |
·氮杂石墨烯的性质 | 第16-17页 |
·氧化铈的制备及性质 | 第17-18页 |
·半导体材料设计原理 | 第18-19页 |
·人工酶的原理 | 第19页 |
·本课题研究的目的及意义 | 第19-21页 |
第二章 尿素氮杂石墨烯-氧化铈人工光合系统的构建及CO_2的光催化还原 | 第21-36页 |
·引言 | 第21页 |
·主要实验药品及仪器 | 第21-22页 |
·实验药品 | 第21-22页 |
·主要实验仪器及装置 | 第22页 |
·实验方法 | 第22-24页 |
·氧化石墨烯合成方法 | 第22页 |
·含氮氧化石墨烯的制备 | 第22-23页 |
·氧化铈掺杂含氮的氧化石墨烯 | 第23页 |
·人工酶的负载 | 第23页 |
·结构及性能表征 | 第23页 |
·光催化实验及分析方法 | 第23-24页 |
·结果与讨论 | 第24-32页 |
·XRD表征 | 第24-25页 |
·拉曼光谱表征 | 第25-26页 |
·XPS表征 | 第26-29页 |
·TEM表征 | 第29-31页 |
·漫反射光谱表征 | 第31-32页 |
·光催化还原CO_2实验 | 第32-35页 |
·CeO_2-NG光催化还原CO_2 | 第32-33页 |
·吸附不同离子对光催化反应的影响 | 第33-34页 |
·铜离子的浓度对光催化反应的影响 | 第34-35页 |
·NG与CeO_2不同质量比对光催化反应的影响 | 第35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第三章 咪唑系列氮杂石墨烯-氧化铈人工光合系统的构建及二氧化碳的光催化还原 | 第36-48页 |
·引言 | 第36页 |
·主要实验药品及仪器 | 第36-37页 |
·实验药品 | 第36-37页 |
·主要实验仪器及装置 | 第37页 |
·实验方法 | 第37-39页 |
·氧化石墨烯的制备方法 | 第37页 |
·氮杂石墨烯的制备 | 第37-38页 |
·氧化铈掺杂氮杂石墨烯的制备 | 第38页 |
·人工酶的负载 | 第38页 |
·结构及性能表征 | 第38页 |
·光催化实验及分析方法 | 第38-39页 |
·结果与讨论 | 第39-44页 |
·红外表征 | 第39-40页 |
·拉曼表征 | 第40-41页 |
·XRD表征 | 第41-42页 |
·漫反射光谱表征 | 第42-43页 |
·TEM表征 | 第43-44页 |
·咪唑系列光催化还原CO_2实验 | 第44-47页 |
·CeO_2-NGi光催化还原CO_2 | 第44-45页 |
·吸附不同离子对光催化反应的影响 | 第45-46页 |
·铜离子的浓度对光催化反应的影响 | 第46-47页 |
·NGi与CeO_2不同质量比对光催化反应的影响 | 第47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第四章 三聚氰胺系列氮杂石墨烯-氧化铈人工光合系统的构建及二氧化碳的光催化还原 | 第48-59页 |
·引言 | 第48页 |
·主要实验药品及仪器 | 第48-49页 |
·实验药品的规格和生产厂家 | 第48-49页 |
·主要实验仪器及装置 | 第49页 |
·实验方法 | 第49-51页 |
·三聚氰胺氮杂氧化铈的制备 | 第49页 |
·人工酶的负载 | 第49-50页 |
·结构及性能表征 | 第50页 |
·光催化实验及分析方法 | 第50-51页 |
·结果与讨论 | 第51-55页 |
·XRD表征 | 第51-52页 |
·TEM表征 | 第52-53页 |
·漫反射表征 | 第53-54页 |
·拉曼表征 | 第54-55页 |
·三聚氰胺系列光催化还原CO_2实验 | 第55-58页 |
·三聚氰胺光催化还原CO_2 | 第55-56页 |
·吸附不同离子对光催化反应的影响 | 第56页 |
·铜离子的浓度对光催化反应的影响 | 第56-57页 |
·g-C_3N_4与CeO_2不同质量比对光催化产量的影响 | 第57-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第五章 总结及前景展望 | 第59-61页 |
·结论 | 第59-60页 |
·展望 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-69页 |
攻读硕士学位期间发表和待发表的论文 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
作者简介 | 第71页 |