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SiC@SiO2纳米电缆包覆层厚度的可控处理及疏水改性研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
1 绪论第10-29页
   ·一维纳米材料的简介第10-14页
     ·一维纳米材料的生长机理第10-13页
     ·一维纳米材料的特性第13-14页
   ·SiC 一维纳米材料的研究概述第14-18页
     ·SiC 一维纳米材料的晶体结构第14-15页
     ·SiC 一维纳米材料的理化性质第15页
     ·SiC 一维纳米材料的基本性能及应用第15-17页
     ·SiC 一维纳米材料的制备方法第17-18页
   ·一维纳米材料的纯化及疏水改性研究现状第18-24页
     ·一维纳米材料的纯化处理研究第18-22页
     ·一维纳米材料的疏水改性研究第22-24页
   ·SiC 一维纳米材料的纯化及疏水改性第24-26页
     ·SiC 一维纳米材料的纯化第24-25页
     ·SiC 一维纳米材料的疏水改性第25-26页
   ·本文选题依据、主要研究内容及创新点第26-29页
     ·本文的选题依据第26-27页
     ·本文的主要研究内容第27-28页
     ·本文的主要创新点第28-29页
2 实验部分第29-32页
   ·实验仪器及实验原料第29页
     ·实验仪器第29页
     ·实验原料第29页
   ·实验原料预处理第29-30页
     ·SiC@SiO_2纳米电缆的煅烧第29页
     ·溶液的配制第29-30页
   ·实验步骤第30-32页
     ·煅烧法可控处理 SiC@SiO_2纳米电缆的包覆层厚度第30页
     ·溶液法可控处理 SiC@SiO_2纳米电缆的包覆层厚度第30页
     ·制备 SiC@SiO_2纳米电缆的原料残留物的疏水改性第30页
     ·SiC@SiO_2纳米电缆的疏水改性第30-32页
3 SiC@SiO_2纳米电缆包覆层厚度的可控处理第32-49页
   ·引言第32页
   ·煅烧法可控处理 SiC@SiO_2纳米电缆的包覆层第32-36页
     ·煅烧温度对 SiO_2包覆层厚度可控处理的影响第33-34页
     ·煅烧时间对 SiO_2包覆层厚度可控处理的影响第34-36页
   ·实验原理第36页
   ·溶液法可控处理 SiC@SiO_2纳米电缆的包覆层第36-48页
     ·反应时间对 SiO_2包覆层厚度可控处理的影响第36-37页
     ·溶液浓度对 SiO_2包覆层厚度可控处理的影响第37-38页
     ·SiO_2包覆层可控处理的机制、反应动力学及 PL 性能第38-48页
   ·本章小结第48-49页
4 制备 SiC@SiO_2纳米电缆的原料残留物的疏水改性第49-66页
   ·引言第49-50页
   ·制备 SiC@SiO_2纳米电缆的原料残留物的微观形貌及结构第50页
   ·KH570 疏水改性制备 SiC@SiO_2纳米电缆的原料残留物第50-54页
     ·改性剂的用量对残留物的疏水改性的影响第51-53页
     ·改性时间对残留物的疏水改性的影响第53-54页
   ·Si69 疏水改性制备 SiC@SiO_2纳米电缆的原料残留物第54-57页
     ·改性剂的用量对残留物疏水改性的影响第54-56页
     ·改性时间对残留物疏水改性的影响第56-57页
   ·FAS 疏水改性制备 SiC@SiO_2纳米电缆的原料残留物第57-64页
     ·FAS 对残留物疏水改性的机理第57-58页
     ·改性剂的用量对残留物疏水改性的影响第58-61页
     ·改性时间对残留物疏水改性的影响第61-63页
     ·改性温度对残留物疏水改性的影响第63页
     ·球磨法改性制备 SiC@SiO_2纳米电缆的原料残留物第63-64页
   ·本章小结第64-66页
5 SiC@SiO_2纳米电缆的疏水改性第66-77页
   ·引言第66页
   ·SiC@SiO_2纳米电缆的微观形貌及结构第66-68页
   ·FAS 疏水改性 SiC@SiO_2纳米电缆第68-73页
     ·改性时间对 SiC@SiO_2纳米电缆疏水改性的影响第68-72页
     ·改性温度对 SiC@SiO_2纳米电缆疏水改性的影响第72-73页
   ·具有超疏水特性的 SiC@SiO_2纳米电缆的表征、机理及化学稳定性第73-76页
   ·本章小结第76-77页
6 结论第77-78页
参考文献第78-87页
致谢第87-88页
攻读硕士学位期间发表的学术论文及获奖目录第88-89页

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