| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| 引言 | 第8页 |
| ·二氧化钛的结构及性质 | 第8-11页 |
| ·二氧化钛薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·常见的制备方法 | 第12-14页 |
| ·磁控溅射法 | 第12页 |
| ·分子束外延法 | 第12-13页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第13页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第13页 |
| ·化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| ·本文的选题依据与研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 射频磁控溅射制备薄膜原理及工艺 | 第15-22页 |
| ·磁控溅射原理 | 第15-16页 |
| ·本实验所用设备及其介绍 | 第16-17页 |
| ·表征方法 | 第17-20页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第17-18页 |
| ·紫外—可见分光光度计(UV-Vis) | 第18-19页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第19-20页 |
| ·制备工艺及实施方案 | 第20-22页 |
| 第三章 制备条件对磁控溅射二氧化钛薄膜结构的影响 | 第22-32页 |
| ·气体组分对磁控溅射二氧化钛薄膜结构的影响 | 第22-25页 |
| ·溅射压强的影响 | 第22-24页 |
| ·氩气流量的影响 | 第24-25页 |
| ·溅射参数对磁控溅射二氧化钛薄膜结构的影响 | 第25-30页 |
| ·溅射功率的影响 | 第25-26页 |
| ·溅射时间的影响 | 第26-28页 |
| ·靶基距的影响 | 第28-29页 |
| ·负偏压的影响 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 制备条件对磁控溅射二氧化钛薄膜光学性质的影响 | 第32-45页 |
| ·不同气体组分对磁控溅射二氧化钛薄膜紫外性能影响 | 第32-36页 |
| ·溅射压强的影响 | 第32-34页 |
| ·氩气流量的影响 | 第34-36页 |
| ·不同溅射参数对磁控溅射二氧化钛薄膜紫外性能影响 | 第36-41页 |
| ·溅射功率的影响 | 第36-38页 |
| ·溅射时间的影响 | 第38-39页 |
| ·靶基距的影响 | 第39-40页 |
| ·负偏压的影响 | 第40-41页 |
| ·不同制备条件下二氧化钛薄膜光致发光(PL)分析 | 第41-43页 |
| ·溅射压强的影响 | 第41-42页 |
| ·氩气流量的影响 | 第42-43页 |
| ·溅射功率的影响 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 总结 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |