铁电陶瓷氧化物相变的光谱学研究及物性测试系统
附表 | 第1-6页 |
内容摘要 | 第6-9页 |
ABSTRACT | 第9-16页 |
第一章 绪论 | 第16-33页 |
·铁电/反铁电材料研究的背景 | 第16-19页 |
·铁电/反铁电材料的历史 | 第16-17页 |
·铁电/反铁电材料的种类 | 第17-18页 |
·铁电/反铁电材料的应用 | 第18-19页 |
·钙钛矿型铁电陶瓷氧化物的主要物性及表征 | 第19-24页 |
·微观结构及表征 | 第19-22页 |
·宏观性质及表征 | 第22-24页 |
·PLZST的研究进展和本文的研究意义 | 第24-27页 |
·傅里叶红外测试系统扩展的背景和意义 | 第27-28页 |
·本论文的主要内容及创新 | 第28-30页 |
参考文献 | 第30-33页 |
第二章 PLZST陶瓷的制备和结构表征 | 第33-53页 |
·PLZST陶瓷的制备 | 第33-34页 |
·PLZST陶瓷的XRD表征 | 第34-41页 |
·XRD实验配置和PLZST陶瓷样品制备质量 | 第35-37页 |
·不同La组分的XRD表征 | 第37-39页 |
·不同温度的XDR表征 | 第39-41页 |
·PLZST陶瓷的拉曼表征 | 第41-50页 |
·拉曼实验配置和PLZST正则模式 | 第41-42页 |
·不同La组分的拉曼表征 | 第42-46页 |
·不同温度的拉曼表征 | 第46-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-53页 |
第三章 PLZST陶瓷的光谱学研究 | 第53-74页 |
·光谱学研究技术及数据处理 | 第53-54页 |
·PLZST陶瓷的紫外反射光谱研究 | 第54-61页 |
·PLZST陶瓷紫外反射光谱研究实验配置 | 第54-55页 |
·不同La组分的紫外反射光谱研究 | 第55-57页 |
·不同La组分的介电常数 | 第57-58页 |
·不同La组分的能带跃迁变化 | 第58-61页 |
·PLZST陶瓷的椭圆偏振光谱研究 | 第61-68页 |
·PLZST陶瓷的椭圆偏振光谱实验配置 | 第61页 |
·椭圆偏振光谱数据分析方法的比较 | 第61-63页 |
·不同温度PLZST陶瓷的介电常数 | 第63-65页 |
·不同温度PLZST陶瓷中的能带跃迁 | 第65-68页 |
·相变起源及电子结构物理解释 | 第68-71页 |
·跃迁能级的指认 | 第68-69页 |
·跃迁能级与相变关系 | 第69-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-74页 |
第四章 变温红外测试系统 | 第74-101页 |
·深低温红外测试系统 | 第75-93页 |
·深低温环境简介与选型 | 第75-77页 |
·光学窗片简介与选配 | 第77-82页 |
·深低温系统设计与实施 | 第82-93页 |
·高温红外测试系统 | 第93-99页 |
·高温红外配件的简介 | 第93-95页 |
·高温红外系统设计与实施 | 第95-99页 |
·本章小结 | 第99-100页 |
参考文献 | 第100-101页 |
第五章 深低温强磁场远红外反射系统 | 第101-114页 |
·深低温强磁场远红外的光路设计 | 第103-107页 |
·反射面镜简介 | 第103-104页 |
·系统光路设计 | 第104-107页 |
·深低温强磁场的真空腔设计 | 第107-112页 |
·前级腔体设计与实施 | 第108-109页 |
·后期腔体设计与实施 | 第109-112页 |
·本章小结 | 第112-113页 |
参考文献 | 第113-114页 |
第六章 总结与展望 | 第114-117页 |
·PLZST陶瓷光谱学研究 | 第114-115页 |
·傅里叶变换红外测试系统的扩展研发 | 第115-117页 |
附录Ⅰ 攻读博士学位期间科研成果 | 第117-118页 |
附录Ⅱ 致谢 | 第118-119页 |