| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·有机半导体材料概述 | 第10-13页 |
| ·有机半导体材料分类 | 第10-11页 |
| ·有机半导体材料的应用领域 | 第11-13页 |
| ·酞菁类衍生物在有机半导体器件中的应用 | 第13-15页 |
| ·酞菁类衍生物结构特征 | 第13-14页 |
| ·酞菁类衍生物有机半导体器件中的应用 | 第14-15页 |
| ·三(8-羟基喹啉)铝在有机半导体器件中的应用 | 第15页 |
| ·三(8-羟基喹啉)铝结构特征 | 第15页 |
| ·三(8-羟基喹啉)铝在半导体器件中的应用 | 第15页 |
| ·有机小分子的成膜 | 第15-18页 |
| ·真空沉积法 | 第16页 |
| ·电化学沉积 | 第16-18页 |
| ·本论文设计思想 | 第18-20页 |
| 第2章 实验试剂和测试仪器 | 第20-24页 |
| ·实验用试剂和药品 | 第20-21页 |
| ·实验用设备 | 第21页 |
| ·实验用测试仪器 | 第21-22页 |
| ·薄膜的制备 | 第22-24页 |
| ·真空蒸镀法 | 第22-23页 |
| ·电泳沉积法 | 第23-24页 |
| 第3章 金属酞菁衍生物的合成与结构表征 | 第24-32页 |
| ·β-四戊氧基铜酞菁的合成与结构表征 | 第25-29页 |
| ·中间体(4-戊氧基邻苯二甲腈)的合成 | 第25-27页 |
| ·β-四戊氧基取代铜酞菁的合成与结构表征 | 第27-29页 |
| ·β-四（羧基苯氧基）铜酞菁的合成与结构表征 | 第29-31页 |
| ·4-羧基苯氧基邻苯二甲腈合成 | 第29-30页 |
| ·β-四（羧基苯氧基）铜酞菁的合成与结构表征 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第4章 金属酞菁衍生物薄膜的制备与性质研究 | 第32-43页 |
| ·金属酞菁衍生物的质子化反应 | 第32-35页 |
| ·β-四戊氧基铜酞菁的质子化反应 | 第33-34页 |
| ·β-四(羧基苯氧基)铜酞菁的质子化反应 | 第34-35页 |
| ·金属酞菁衍生物薄膜的制备 | 第35页 |
| ·电泳沉积法 | 第35页 |
| ·真空蒸镀法 | 第35页 |
| ·金属酞菁衍生物薄膜的测试与表征 | 第35-42页 |
| ·SEM 表面形貌观测 | 第35-39页 |
| ·紫外-可见光吸收光谱 | 第39-41页 |
| ·酞菁衍生物薄膜的结晶性能 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 三(8-羟基喹啉)铝薄膜的改性和性质研究 | 第43-50页 |
| ·三(8-羟基喹啉)铝蒸镀膜的制备与性质研究 | 第43-45页 |
| ·三(8-羟基喹啉)铝薄膜的制备 | 第43页 |
| ·三(8-羟基喹啉)铝蒸镀膜的表征 | 第43-45页 |
| ·三(8-羟基喹啉)铝蒸镀膜的改性与性质研究 | 第45-48页 |
| ·单一溶剂三(8-羟基喹啉)铝改性膜的表面形貌表征 | 第45-47页 |
| ·混合溶剂三(8-羟基喹啉)铝改性膜的表面形貌表征 | 第47-48页 |
| ·三(8-羟基喹啉)铝蒸镀膜的无机掺杂 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 攻读硕士学位期间主要成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 作者简介 | 第59页 |