| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-11页 |
| 第一章 前言 | 第11-34页 |
| ·研究背景 | 第11-17页 |
| ·氮氧化物的产生及危害 | 第11-12页 |
| ·我国大气氮氧化物污染现状 | 第12-13页 |
| ·日益严格的氮氧化物排放标准 | 第13-17页 |
| ·固定源氮氧化物排放标准 | 第13-15页 |
| ·移动源氮氧化物排放标准 | 第15-17页 |
| ·氮氧化物排放控制技术概况 | 第17-21页 |
| ·氮氧化物直接催化分解 | 第17-18页 |
| ·氮氧化物存储还原（NSR）技术 | 第18-19页 |
| ·选择性催化还原（SCR）技术 | 第19-21页 |
| ·氨选择性催化还原（NH_3-SCR）技术 | 第19-20页 |
| ·碳氢选择性催化还原（HC-SCR）技术 | 第20-21页 |
| ·氨选择性催化还原（NH_3-SCR）技术研究进展 | 第21-24页 |
| ·NH_3-SCR 催化剂 | 第21-22页 |
| ·NH_3-SCR 的研究进展 | 第22-24页 |
| ·传统V_20_5基催化剂体系及改性研究 | 第22页 |
| ·新型氧化物催化剂的研究开发 | 第22页 |
| ·分子筛催化剂的研究 | 第22-23页 |
| ·NH_3-SCR 反应机理研究 | 第23-24页 |
| ·V-W-Ti 体系NH_3-SCR 研究进展 | 第24-32页 |
| ·V-W-Ti 各组分作用研究 | 第24-25页 |
| ·V-W-Ti 改性研究 | 第25-27页 |
| ·载体改性研究 | 第26页 |
| ·活性组分改性研究 | 第26-27页 |
| ·V 流失研究进展 | 第27-28页 |
| ·V-W-Ti 催化反应机理研究 | 第28-31页 |
| ·基于Lewis 酸位反应机理 | 第28-29页 |
| ·基于Br?nsted 酸位反应机理 | 第29-31页 |
| ·V-W-Ti 中毒机理研究 | 第31-32页 |
| ·论文主要研究内容 | 第32-34页 |
| ·课题研究的意义 | 第32页 |
| ·课题研究的内容 | 第32-34页 |
| 第二章 催化剂评价实验方法的建立 | 第34-49页 |
| ·NO_x催化脱除评价系统 | 第34-36页 |
| ·评价系统结构简介 | 第34-35页 |
| ·评价系统主要功能 | 第35-36页 |
| ·粉末样测试 | 第35-36页 |
| ·整体样测试 | 第36页 |
| ·红外气体分析仪的标定 | 第36-46页 |
| ·红外气体分析技术 | 第36-38页 |
| ·红外光谱 | 第36-37页 |
| ·气体定量基本原理 | 第37-38页 |
| ·红外气体的标定 | 第38-45页 |
| ·标准曲线的制备 | 第38-40页 |
| ·定量特征区间的选取 | 第40-42页 |
| ·定量分析方法的建立 | 第42-45页 |
| ·气体分析浓度的准确性校验 | 第45-46页 |
| ·NO_x催化脱除系统的重复性测试 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第三章 不同钒含量催化剂性能研究 | 第49-63页 |
| ·实验部分 | 第49-52页 |
| ·实验材料 | 第49-50页 |
| ·催化剂的制备 | 第50页 |
| ·NH_3-SCR 活性评价 | 第50-51页 |
| ·催化剂表征 | 第51-52页 |
| ·X 射线衍射（XRD）及比表面积分析 | 第51-52页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）表征 | 第52页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第52页 |
| ·实验结果与讨论 | 第52-61页 |
| ·不同V 含量对NH_3-SCR 性能影响 | 第52-54页 |
| ·水热老化对NH_3-SCR 性能的影响 | 第54-56页 |
| ·催化剂的表征分析 | 第56-61页 |
| ·XRD 和BET 表征 | 第56-58页 |
| ·表面形貌分析-SEM | 第58-59页 |
| ·结构分析-Raman | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第四章 氧化锆改性对催化剂性能影响研究 | 第63-92页 |
| ·实验部分 | 第63-66页 |
| ·实验材料 | 第63-64页 |
| ·催化剂的制备 | 第64页 |
| ·NH_3-SCR 活性评价 | 第64-65页 |
| ·催化剂表征 | 第65-66页 |
| ·XRD、BET 及SEM 表征 | 第65页 |
| ·NH_3的氧化性能 | 第65页 |
| ·NH_3的程序升温脱附（NH_3-TPD） | 第65页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS）表征 | 第65-66页 |
| ·原位红外漫反射（in-situ DRIFT） | 第66页 |
| ·实验结果与讨论 | 第66-90页 |
| ·不同Zr 含量对NH_3-SCR 性能影响 | 第66-68页 |
| ·水热老化对NH_3-SCR 性能的影响 | 第68-70页 |
| ·催化剂基本结构表征 | 第70-76页 |
| ·BET 及XRD 表征 | 第70-73页 |
| ·表面形貌分析-SEM | 第73-74页 |
| ·表面元素分析-XPS | 第74-76页 |
| ·催化剂NH_3氧化性能 | 第76-78页 |
| ·催化剂的吸附性能 | 第78-84页 |
| ·NH_3-TPD | 第78-79页 |
| ·NH_3-DRIFT | 第79-84页 |
| ·Zr0_2改性影响机制探究 | 第84-90页 |
| ·Zr0_2对催化剂结构影响 | 第84-85页 |
| ·Zr0_2对催化剂表面反应物种的影响 | 第85-88页 |
| ·Zr0_2改性催化剂反应动力学研究 | 第88-90页 |
| ·本章小结 | 第90-92页 |
| 第五章氧化铈改性对催化剂性能影响研究 | 第92-117页 |
| ·实验部分 | 第92-95页 |
| ·实验材料 | 第92页 |
| ·催化剂的制备 | 第92-93页 |
| ·NH_3-SCR 活性评价 | 第93-94页 |
| ·催化剂表征 | 第94-95页 |
| ·XRD、BET 及XPS 表征 | 第94页 |
| ·NH_3氧化表征 | 第94页 |
| ·NH_3的程序升温脱附 | 第94页 |
| ·NO+_02程序升温脱附 | 第94页 |
| ·H_2程序升温还原（H_2-TPR） | 第94页 |
| ·原位红外漫反射（in-situ DRIFT） | 第94-95页 |
| ·实验结果与讨论 | 第95-115页 |
| ·不同Ce 含量对催化剂性能影响 | 第95-97页 |
| ·水热老化对Ce 改性催化剂性能影响 | 第97-99页 |
| ·H_20 和N0_2对催化剂性能影响 | 第99-102页 |
| ·催化剂的结构表征 | 第102-105页 |
| ·BET 及XRD 表征 | 第102-104页 |
| ·表面元素分析-XPS | 第104-105页 |
| ·催化剂的氧化还原性能 | 第105-109页 |
| ·NH_3氧化性能 | 第105-107页 |
| ·H_2-TPR 表征 | 第107-109页 |
| ·催化剂的吸附性能 | 第109-111页 |
| ·NH_3吸附性能 | 第109-110页 |
| ·NO_x吸附性能 | 第110-111页 |
| ·催化剂的反应机理 | 第111-115页 |
| ·本章小结 | 第115-117页 |
| 第六章钒和钨的流失研究 | 第117-126页 |
| ·实验部分 | 第117-118页 |
| ·实验材料 | 第117页 |
| ·催化剂的制备 | 第117-118页 |
| ·热重测试方法 | 第118页 |
| ·实验结果与讨论 | 第118-125页 |
| ·V_20_5组分熔点的测定 | 第118-119页 |
| ·700℃下催化剂质量损失 | 第119-120页 |
| ·800℃下催化剂质量损失 | 第120-125页 |
| ·800℃恒定及N_2气氛下催化剂质量变化 | 第120-123页 |
| ·800℃恒定及空气气氛下催化剂质量变化 | 第123-125页 |
| ·本章小结 | 第125-126页 |
| 第七章结论与展望 | 第126-128页 |
| ·主要结论 | 第126-127页 |
| ·创新点 | 第127页 |
| ·展望 | 第127-128页 |
| 参考文献 | 第128-141页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第141-142页 |
| 致谢 | 第142页 |