摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
1 绪论 | 第11-26页 |
·课题背景 | 第11-12页 |
·国内外研究进展 | 第12页 |
·原子氧(AO)简介 | 第12-17页 |
·低地轨道中的原子氧 | 第13页 |
·原子氧侵蚀效应分析 | 第13-15页 |
·防护方法 | 第15-17页 |
·SiO_2薄膜的制备方法 | 第17-22页 |
·化学气相沉积 | 第17-18页 |
·物理气相沉积 | 第18-19页 |
·热氧化法 | 第19-20页 |
·液相沉积法 | 第20页 |
·溶胶凝胶法 | 第20-22页 |
·溶剂热法在聚甲基丙烯酸甲酯表面制备SiO_2薄膜 | 第22-23页 |
·等离子体聚合在硅橡胶表面制备SiO_x薄膜 | 第23-25页 |
·选题意义与研究内容 | 第25-26页 |
2 原子氧对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的侵蚀效应分析 | 第26-32页 |
·引言 | 第26页 |
·实验 | 第26-27页 |
·实验材料 | 第26页 |
·原子氧辐照试验 | 第26-27页 |
·性能表征 | 第27页 |
·傅里叶红外光谱(FTIR) | 第27页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
·紫外可见光谱(UV-Vis) | 第27页 |
·结果与讨论 | 第27-31页 |
·表面形貌分析 | 第27-29页 |
·FTIR分析 | 第29-30页 |
·透光率分析 | 第30-31页 |
·质量损失与侵蚀率 | 第31页 |
·结论 | 第31-32页 |
3 原子氧对硅橡胶的侵蚀效应分析 | 第32-49页 |
·引言 | 第32页 |
·实验 | 第32-34页 |
·实验材料 | 第32-33页 |
·原子氧辐照试验 | 第33-34页 |
·性能表征 | 第34页 |
·紫外可见光谱(UV-Vis) | 第34页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第34页 |
·真空质损(TML)、可凝挥发物(CVCM)和水汽回收量(WVR) | 第34页 |
·结果与讨论 | 第34-48页 |
·DC93-500 硅橡胶原子氧辐照试验及其结果 | 第34-39页 |
·GN511 硅橡胶原子氧辐照试验及其结果 | 第39-43页 |
·GN512 硅橡胶原子氧辐照试验及其结果 | 第43-47页 |
·硅橡胶材料真空质损试验及结果 | 第47-48页 |
·结论 | 第48-49页 |
4 溶剂热法在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)表面制备无机SiO_2防护薄膜的研究 | 第49-66页 |
·引言 | 第49页 |
·实验 | 第49-52页 |
·实验材料 | 第49页 |
·制备溶胶 | 第49-50页 |
·镀膜 | 第50-52页 |
·性能表征 | 第52-53页 |
·傅里叶红外光谱(FTIR) | 第52页 |
·原子力显微镜(AFM),扫描电子显微镜(SEM),光学显微镜 | 第52页 |
·紫外可见光谱(UV-Vis) | 第52页 |
·干湿循环测试 | 第52页 |
·原子氧辐照试验 | 第52-53页 |
·结果与讨论 | 第53-65页 |
·溶剂热过程的作用 | 第53-57页 |
·表面微观结构 | 第57-60页 |
·光学性质 | 第60-61页 |
·原子氧暴露结果 | 第61-64页 |
·红外分析 | 第64-65页 |
·结论 | 第65-66页 |
5 等离子体聚合在硅橡胶表面制备SiO_x薄膜的研究 | 第66-75页 |
·引言 | 第66页 |
·实验 | 第66-67页 |
·实验过程 | 第66-67页 |
·原子氧辐照实验 | 第67页 |
·性能表征 | 第67-68页 |
·紫外可见光谱(UV-Vis) | 第67页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第67-68页 |
·结果与讨论 | 第68-73页 |
·DC1 原子氧防护膜实验结果 | 第68-71页 |
·DC2 原子氧防护膜实验结果 | 第71-73页 |
·结论 | 第73-75页 |
6 结论与展望 | 第75-77页 |
·结论 | 第75页 |
·展望 | 第75-77页 |
参考文献 | 第77-83页 |
致谢 | 第83-84页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第84-85页 |
攻读硕士学位期间参与项目 | 第85-86页 |