摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-15页 |
图片索引 | 第15-17页 |
Figure Caption Index | 第17-19页 |
表格索引 | 第19-21页 |
Table Title Index | 第21-23页 |
缩略语索引 | 第23-25页 |
第1章 绪论 | 第25-43页 |
·课题背景及研究目的和意义 | 第25-26页 |
·薄膜外延研究现状 | 第26-32页 |
·外延技术研究进展 | 第27-28页 |
·薄膜外延理论进展 | 第28-31页 |
·薄膜外延技术的应用 | 第31-32页 |
·KDP 和 ADP 晶体简述 | 第32-34页 |
·LiNbO3和 LiTaO_3晶体简述 | 第34页 |
·水相外延 | 第34-38页 |
·水相外延的溶液理论基础 | 第34-35页 |
·外延生长与水溶液结晶 | 第35-36页 |
·外延生长与水热法晶体生长 | 第36页 |
·水相外延与结晶学机理 | 第36-37页 |
·界面形貌与几何结晶学 | 第37-38页 |
·光谱分析及光谱性能应用 | 第38-41页 |
·主要研究内容 | 第41-43页 |
第2章 实验材料与研究方法 | 第43-50页 |
·实验原料与试剂 | 第43-44页 |
·实验仪器与设备 | 第44-46页 |
·实验方法与技术 | 第46-48页 |
·溶液生长与外延 | 第46-47页 |
·水热外延 | 第47-48页 |
·材料测试与表征 | 第48-50页 |
·光学显微镜 | 第48页 |
·扫描电子显微镜 | 第48页 |
·X-射线粉末衍射谱 | 第48-49页 |
·红外光谱 | 第49页 |
·拉曼及微拉曼光谱 | 第49页 |
·吸收光谱 | 第49页 |
·上转换荧光光谱 | 第49-50页 |
第3章 KDP/ADP 体系晶体生长与光谱特性 | 第50-79页 |
·KDP/ADP 溶液体系分析 | 第50-56页 |
·KDP/ADP 溶液体系中的离子浓度 | 第50-52页 |
·KDP/ADP 溶液体系的饱和 | 第52-56页 |
·KDP/ADP 体系晶体结构表征 | 第56-63页 |
·KDP/ADP 体系结晶 | 第57-58页 |
·KADP 晶体形貌与缺陷 | 第58-60页 |
·KADP 晶体 X-射线衍射分析 | 第60-62页 |
·KDP/ADP 体系化学组成分析 | 第62-63页 |
·KDP/ADP 体系晶格振动谱分析 | 第63-78页 |
·KDP 和 ADP 晶体结构的群分析 | 第63-67页 |
·KDP/ADP 体系晶体的红外和拉曼谱分析 | 第67-78页 |
·本章小结 | 第78-79页 |
第4章 KDP/ADP 溶液异质外延及 XO 掺杂 | 第79-104页 |
·KDP/ADP 外延界面形貌分析 | 第79-85页 |
·KDP/ADP 外延界面几何特征 | 第79-80页 |
·KDP/ADP 外延界面演化过程 | 第80-85页 |
·KDP/ADP 异质外延界面晶格振动谱分析 | 第85-90页 |
·KDP/ADP 外延界面拉曼光谱与结构振动信息 | 第85-86页 |
·KDP/ADP 外延界面晶格振动谱光谱归属 | 第86-90页 |
·XO 掺杂 KDP 和 ADP 晶体的生长与外延 | 第90-100页 |
·XO 掺杂 KDP 和 ADP 晶体研究 | 第90-96页 |
·XO 掺杂 KDP/ADP 外延研究 | 第96-99页 |
·XO 掺杂 KDP/ADP 界面拉曼光谱分析 | 第99-100页 |
·界面拉曼与微拉曼光谱的潜在应用分析 | 第100-102页 |
·界面拉曼光谱与生长界面监测 | 第100-101页 |
·微拉曼光谱与准二维声子玻璃 | 第101-102页 |
·本章小结 | 第102-104页 |
第5章 同质外延 Er/Yb:LiMO_3(M=Nb,Ta)及光谱特性 | 第104-120页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb, Ta)水热外延 | 第104-106页 |
·离子源溶液分析 | 第104-105页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb, Ta)水热外延反应过程分析 | 第105-106页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb, Ta)外延层形貌分析 | 第106-109页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb, Ta)外延层形貌特征 | 第106-107页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb,Ta)微观结构与外延技术 | 第107-109页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb, Ta)光谱性能分析 | 第109-117页 |
·J-O 理论的改进 | 第109-110页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb, Ta)吸收光谱 J-O 理论拟合 | 第110-114页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb,Ta)外延层上转换性能分析 | 第114-116页 |
·Er/Yb:LiMO_3(M=Nb,Ta)外延层量子剪裁性能计算 | 第116-117页 |
·改进 J-O 理论计算推广 | 第117-118页 |
·本章小结 | 第118-120页 |
结论 | 第120-122页 |
参考文献 | 第122-135页 |
附录 | 第135-145页 |
攻读学位期间发表的学术论文及其它成果 | 第145-147页 |
致谢 | 第147-148页 |
个人简历 | 第148页 |