| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·ZnO-TFT 的发展历程及研究进展 | 第13-14页 |
| ·ZnO-TFT 在平板显示技术中的应用 | 第14-17页 |
| ·ZnO-TFT 存在的问题 | 第17页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第二章 ZnO-TFT 的基础知识 | 第18-27页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第18页 |
| ·ZnO 的应用 | 第18-20页 |
| ·光电材料 | 第18-19页 |
| ·气敏传感器 | 第19页 |
| ·压电传感器 | 第19页 |
| ·压敏传感器 | 第19-20页 |
| ·ZnO 薄膜常用的制备方法 | 第20-23页 |
| ·分子束外延法 | 第20页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第20页 |
| ·金属有机化学气相淀积法 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21页 |
| ·原子层淀积法 | 第21页 |
| ·射频磁控溅射法 | 第21-23页 |
| ·ZnO-TFT 的基础知识 | 第23-25页 |
| ·ZnO-TFT 的结构 | 第23-24页 |
| ·ZnO-TFT 的工作原理 | 第24-25页 |
| ·ZnO-TFT 的主要性能参数 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 ZnO-TFT 的制备与测试 | 第27-35页 |
| ·ZnO-TFT 的制备 | 第27-31页 |
| ·清洗基片 | 第27-28页 |
| ·制备栅介质层 | 第28-29页 |
| ·制备 ZnO 薄膜有源层 | 第29页 |
| ·制备源漏电极 | 第29-31页 |
| ·ZnO 薄膜的表征 | 第31-32页 |
| ·ZnO 薄膜晶体管性能的测试 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 溅射工艺参数对 ZnO 薄膜及 ZnO-TFT 特性的影响 | 第35-57页 |
| ·氧氩流量比对 ZnO 薄膜及 ZnO-TFT 特性的影响 | 第35-40页 |
| ·氧氩流量比对 ZnO 薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·氧氩流量比对 ZnO 薄膜晶向的影响 | 第36-37页 |
| ·氧氩流量比对 ZnO 薄膜透射率的影响 | 第37-38页 |
| ·氧氩流量比对 ZnO-TFT 的性能的影响 | 第38-40页 |
| ·衬底温度对 ZnO 薄膜及 ZnO-TFT 特性的影响 | 第40-45页 |
| ·衬底温度对 ZnO 薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·衬底温度对 ZnO 薄膜晶向的影响 | 第41-42页 |
| ·衬底温度对 ZnO 薄膜透射率的影响 | 第42页 |
| ·衬底温度对 ZnO-TFT 的性能的影响 | 第42-45页 |
| ·溅射功率对 ZnO 薄膜及 ZnO-TFT 特性的影响 | 第45-50页 |
| ·溅射功率对 ZnO 薄膜表面形貌的影响 | 第45-46页 |
| ·溅射功率对 ZnO 薄膜晶向的影响 | 第46-47页 |
| ·溅射功率对 ZnO 薄膜透射率的影响 | 第47页 |
| ·溅射功率对 ZnO-TFT 的性能的影响 | 第47-50页 |
| ·有源层厚度对 ZnO 薄膜及 ZnO-TFT 特性的影响 | 第50-55页 |
| ·有源层厚度对 ZnO 薄膜表面形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·有源层厚度对 ZnO 薄膜晶向的影响 | 第51页 |
| ·有源层厚度对 ZnO 薄膜透射率的影响 | 第51-52页 |
| ·有源层厚度对 ZnO-TFT 的性能的影响 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 ZnO-TFT 的稳定性分析 | 第57-73页 |
| ·稳定性测试方法 | 第57-58页 |
| ·栅偏压应力下的稳定性分析 | 第58-64页 |
| ·漏电压应力下的稳定性分析 | 第64-69页 |
| ·热稳定性分析 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 附件 | 第83页 |
