| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| ·选题背景及意义 | 第8-9页 |
| ·文献综述 | 第9-17页 |
| ·电磁场作用下流体中颗粒运动的理论基础 | 第9-10页 |
| ·已有电磁净化磁场种类概述 | 第10-16页 |
| ·影响电磁分离效果的因素 | 第16-17页 |
| ·主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 实验设备、材料与研究方法 | 第19-26页 |
| ·实验材料及其制备 | 第19-20页 |
| ·实验设备及其原理 | 第20-23页 |
| ·旋转磁场发生设备及其原理 | 第20-22页 |
| ·真空熔炼炉 | 第22页 |
| ·高斯计 | 第22-23页 |
| ·实验研究方法 | 第23-26页 |
| ·试样制备过程 | 第23页 |
| ·表征方法 | 第23-24页 |
| ·取样方法 | 第24-25页 |
| ·试样的宏观组织观察 | 第25页 |
| ·试样的微观组织观察 | 第25-26页 |
| 第3章 旋转磁场下铝硅铜合金中初生硅颗粒的分布规律 | 第26-40页 |
| ·改变电流对铝合金中硅颗粒分布规律的影响 | 第26-32页 |
| ·改变角频率对铝合金中硅颗粒分布规律的影响 | 第32-35页 |
| ·改变磁场处理时间对铝合金中硅颗粒分布规律的影响 | 第35-37页 |
| ·结果讨论与分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 正反转交替的旋转磁场下铝合金中硅颗粒的分布规律 | 第40-56页 |
| ·改变电流对硅颗粒分布的影响 | 第40-44页 |
| ·改变频率对硅颗粒分布的影响 | 第44-46页 |
| ·磁场处理时间对硅颗粒分布规律的影响 | 第46-51页 |
| ·磁场处理总时间对硅颗粒分布的影响 | 第46-48页 |
| ·改变正转和反转的时间对硅颗粒分布的影响 | 第48-51页 |
| ·结果讨论与分析 | 第51-54页 |
| ·磁场强度轴向不均匀性对硅颗粒碰撞长大的影响 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 不同磁场施加方式除杂效果的比较 | 第56-63页 |
| ·实验结果 | 第56-61页 |
| ·相同参数下两种旋转磁场除杂效果的比较 | 第56-58页 |
| ·表征参数相同时两种磁场施加方式除杂效果的对比情况 | 第58-59页 |
| ·大参数磁场处理试样的硅颗粒分布规律 | 第59-61页 |
| ·结果分析 | 第61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第6章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第71页 |
