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基于OPTOTECH数控设备的非球面制造工艺研究

摘要第1-4页
Abstract第4-8页
1 绪论第8-18页
   ·研究背景及意义第8-10页
   ·国内外在本领域的研究现状第10-16页
     ·手工修带法第10-11页
     ·计算机控制小磨头技术(CCOS)第11-12页
     ·金刚石加工技术第12-14页
     ·磁流变抛光技术第14-15页
     ·离子束与等离子体抛光技术第15页
     ·光学玻璃非球面模压成型技术第15-16页
   ·本课题研究的主要内容第16-18页
2 基本原理与研究方案第18-24页
   ·基本原理第18-20页
     ·第一次精磨第18页
     ·第一次大面积抛光模抛光第18-19页
     ·第二次精磨第19页
     ·第二次大面积抛光模抛光第19-20页
     ·小磨头修正抛光第20页
   ·研究方案第20-24页
     ·总体方案第20-21页
     ·基于工艺方案的过程参数分析第21页
     ·构建大面积抛光模抛光去除函数第21-22页
     ·精磨工艺研究第22页
     ·全口径大面积抛光模抛光工艺研究第22-23页
     ·小磨头修抛工艺参数研究第23页
     ·过程参数的优化匹配试验第23-24页
3 工艺过程参数与非球面加工面形的关系第24-35页
   ·精磨工艺过程参数与非球而加工面形的关系第24-28页
     ·程序终点对精磨面形的影响第25-27页
     ·砂轮直径对精磨面形的影响第27-28页
     ·工件高度对精磨面形的影响第28页
   ·全口径大面积抛光模抛光过程参数与非球面加工面形的关系第28-33页
     ·转速对非球面加工面形的影响第29-30页
     ·摆角对非球面加工面形的影响第30页
     ·抛光压力对非球面加工面形的影响第30-31页
     ·抛光模的形状对非球面加工面形的影响第31-32页
     ·大面积抛光模抛光轨迹对非球面加工面形的影响第32-33页
     ·大抛光模的边缘效应第33页
   ·小磨头修正抛光参数与非球面加工面形的关系第33-35页
4 大面积抛光模去除函数的构建第35-41页
   ·去除函数建立的理论基础第35页
   ·大面积抛光模抛光压力的研究第35-36页
   ·大面积抛光模抛光去除函数建立第36-41页
5 非球面制造的工艺研究第41-51页
   ·被加工非球面的主要参数第41页
   ·非球面制造工艺流程设计第41-42页
   ·粗磨第42-43页
   ·第一次精磨第43-44页
   ·第一次大面积抛光模抛光第44-47页
     ·大面积抛光模的制作第44-46页
     ·大面积抛光模的抛光第46-47页
     ·基于区域去除效率分析的参数调整方法第47页
   ·第二次精磨第47-48页
   ·第二次大面积抛光模抛光第48-49页
   ·小磨头修正抛光第49页
   ·多件非球面连续抛光第49-50页
   ·磨边第50页
   ·推广应用第50-51页
6 结论第51-52页
参考文献第52-55页
攻读硕士学位期间发表的论文第55-56页
致谢第56-58页

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