铝超导隧道结的制备工艺与特性的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 图目录 | 第8-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-16页 |
| ·量子计算简介 | 第10-11页 |
| ·超导量子计算的发展和研究现状 | 第11-16页 |
| 第二章 超导量子比特 | 第16-26页 |
| ·约瑟夫森结 | 第16-20页 |
| ·约瑟夫森效应 | 第16-18页 |
| ·RCSJ模型 | 第18页 |
| ·恒流源偏置下约瑟夫森结的I-V曲线 | 第18-20页 |
| ·超导量子干涉仪 | 第20-23页 |
| ·dc-SQUID的RSJ模型 | 第20-21页 |
| ·dc-SQUID的类磁通量子化 | 第21页 |
| ·dc-SQUID的临界电流 | 第21-23页 |
| ·约瑟夫森量子比特 | 第23-26页 |
| ·约瑟夫森磁通量子比特 | 第23-24页 |
| ·磁通量子比特的耦合 | 第24-26页 |
| 第三章 电子束蒸发制备Al薄膜 | 第26-38页 |
| ·电子束蒸发的主要原理和特点 | 第26-28页 |
| ·电子束蒸发系统工作原理 | 第27页 |
| ·电子枪系统工作原理 | 第27-28页 |
| ·电子束蒸发系统 | 第28-31页 |
| ·真空系统 | 第29-30页 |
| ·电子枪系统 | 第30-31页 |
| ·辅助设备 | 第31页 |
| ·电子束蒸发过程中遇到的问题和解决方法 | 第31-34页 |
| ·铝材料蒸发不易控制 | 第32-33页 |
| ·电子枪跳电 | 第33页 |
| ·电子束聚焦 | 第33-34页 |
| ·铝薄膜特性分析 | 第34-38页 |
| ·蒸发速率与钨丝电子束流的关系 | 第34-35页 |
| ·薄膜厚度与表面平整度分析 | 第35-37页 |
| ·铝薄膜的超导电流密度 | 第37-38页 |
| 第四章 铝隧道结性能参数与势垒层控制 | 第38-52页 |
| ·制备特定尺寸的铝隧道结 | 第38-41页 |
| ·铝隧道结不对称电极的设计 | 第39-40页 |
| ·对铝隧道结的结面积的控制 | 第40-41页 |
| ·制备铝隧道结势垒层的氧化工艺 | 第41-47页 |
| ·改进氧化工艺过程 | 第42-43页 |
| ·铝隧道结参数特性与势垒层形成条件的关系 | 第43-47页 |
| ·铝隧道结特性 | 第47-52页 |
| ·铝隧道结I-V特性的测量 | 第47-49页 |
| ·铝隧道结的电学参数 | 第49-52页 |
| 第五章 总结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 攻读硕士期间发表或待发表的论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
