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基于SiGe工艺的采用双有源偏置技术的高线性低噪声放大器研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-16页
   ·课题研究背景及意义第10-11页
   ·国内外研究现状第11-13页
   ·本论文的主要工作第13-16页
第2章 低噪声放大器设计基础第16-28页
   ·低噪声放大器的主要性能参数第16-22页
     ·阻抗匹配第16-17页
     ·二端口网络及S参数第17-19页
     ·增益第19-20页
     ·噪声系数第20-21页
     ·线性度第21页
     ·稳定性第21-22页
   ·射频集成电路中的元器件第22-26页
     ·电阻第23页
     ·电容第23-24页
     ·电感第24-25页
     ·BiCMOS工艺中的SiGe HBT第25-26页
   ·本章小结第26-28页
第3章 SiGe HBT线性度分析及新型双有源偏置结构设计第28-40页
   ·SiGe HBT的非线性相消机制及其线性特性主要影响因素gm第28-32页
     ·SiGe HBT的主要非线性因素及其非线性相消机制第28-31页
     ·非线性跨导gm对SiGe HBT线性特性的影响第31-32页
   ·用于改善SiGe HBT LNA线性度的新型双有源偏置结构设计第32-37页
   ·本章小结第37-40页
第4章 基于新型双有源偏置结构的高线性宽带SiGe HBT低噪声放大器设计第40-56页
   ·基于新型双有源偏置结构的高线性宽带SiGe HBT LNA的结构设计第40-47页
     ·低噪声放大器的结构选择第40-42页
     ·带宽的拓展第42-45页
     ·阻抗匹配第45-47页
   ·基于新型双有源偏置结构的高线性宽带SiGe HBT LNA的性能参数第47-51页
     ·线性度第47-48页
     ·增益第48-49页
     ·匹配与隔离第49页
     ·噪声系数第49-50页
     ·稳定性第50-51页
   ·基于新型双有源偏置结构的高线性宽带SiGe HBT LNA的版图设计第51-55页
     ·版图设计规则第51-53页
     ·版图布局优化的主要考虑第53-54页
     ·新型双有源偏置高线性宽带SiGe HBT LNA版图第54-55页
   ·本章小结第55-56页
结论第56-58页
参考文献第58-62页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第62-64页
致谢第64页

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