Fe-Ni-Cr膜上石墨烯的制备、生长过程及其场发射特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·石墨烯概述 | 第10-14页 |
| ·石墨烯的结构 | 第10-11页 |
| ·石墨烯的性能 | 第11-12页 |
| ·石墨烯的场发射研究进展 | 第12-14页 |
| ·CVD方法制备石墨烯的研究进展 | 第14-20页 |
| ·衬底 | 第15-16页 |
| ·催化剂 | 第16-17页 |
| ·CVD制备条件 | 第17-18页 |
| ·生长机理研究 | 第18-20页 |
| ·本文主要研究工作 | 第20-21页 |
| 2 实验 | 第21-25页 |
| ·实验方案 | 第21页 |
| ·实验过程 | 第21-22页 |
| ·实验设备 | 第22-25页 |
| ·直流磁控溅射设备 | 第22-23页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积系统 | 第23-24页 |
| ·场发射测试仪 | 第24-25页 |
| 3 Ni膜和Fe-Ni-Cr膜上碳膜的结构 | 第25-41页 |
| ·镀有Ni膜的单晶硅衬底上碳膜的结构 | 第25-35页 |
| ·Ni膜的结构 | 第25-26页 |
| ·沉积温度对碳膜结构的影响 | 第26-28页 |
| ·Ni膜厚度对碳膜结构的影响 | 第28-31页 |
| ·Ni膜上不同碳结构生长过程 | 第31-35页 |
| ·Fe-Ni-Cr膜上碳膜的结构 | 第35-39页 |
| ·Fe-Ni-Cr膜的结构 | 第35-36页 |
| ·沉积温度对碳膜结构的影响 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 4 石墨烯合成优化、生长过程和场发射特性 | 第41-56页 |
| ·Fe-Ni-Cr膜上石墨烯制备优化 | 第41-48页 |
| ·Fe-Ni-Cr膜厚度对石墨烯生长的影响 | 第41-44页 |
| ·衬底对石墨烯生长的影响 | 第44-48页 |
| ·石墨烯生长过程 | 第48-52页 |
| ·Fe-Ni-Cr膜上石墨烯生长过程 | 第48-50页 |
| ·陶瓷衬底上石墨烯的生长过程 | 第50-52页 |
| ·Fe-Ni-Cr对石墨烯催化生长过程的探讨 | 第52页 |
| ·石墨烯场发射特性 | 第52-54页 |
| ·单晶硅衬底上石墨烯的场发射特性 | 第52-53页 |
| ·陶瓷衬底上石墨烯的场发射特性 | 第53页 |
| ·不锈钢片上石墨烯的场发射特性 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 5 结论 | 第56-57页 |
| 6 参考文献 | 第57-61页 |
| 7 个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第61-62页 |
| 8 致谢 | 第62页 |
