| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 符号说明 | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-32页 |
| 1.1 石墨烯概述 | 第16-22页 |
| 1.1.1 石墨烯的发展 | 第16-18页 |
| 1.1.2 石墨烯的制备方法 | 第18-19页 |
| 1.1.3 石墨烯的修饰 | 第19-21页 |
| 1.1.4 石墨烯的应用 | 第21-22页 |
| 1.2 电磁屏蔽材料的概述 | 第22-29页 |
| 1.2.1 电磁波的污染 | 第22页 |
| 1.2.2 电磁屏蔽的概述 | 第22-24页 |
| 1.2.3 电磁屏蔽材料 | 第24-26页 |
| 1.2.4 影响因素 | 第26-29页 |
| 1.3 氧化石墨烯膜的制备 | 第29-30页 |
| 1.3.1 氧化石墨定向流动成膜 | 第29-30页 |
| 1.3.2 氧化石墨的蒸发成膜 | 第30页 |
| 1.3.3 氧化石墨层-层沉积成膜 | 第30页 |
| 1.3.4 氧化石墨气液界面成膜 | 第30页 |
| 1.4 石墨烯功能薄膜研究意义 | 第30-32页 |
| 第二章 PEI-GO薄膜的制备及性能研究 | 第32-48页 |
| 2.1 前言 | 第32页 |
| 2.2 实验原料和设备 | 第32-34页 |
| 2.2.1 实验原料和仪器 | 第32-33页 |
| 2.2.2 测试设备 | 第33-34页 |
| 2.3 样品的制备 | 第34-35页 |
| 2.3.1 氧化石墨烯的制备 | 第34页 |
| 2.3.2 GO的表面修饰 | 第34-35页 |
| 2.3.3 PEI-GO薄膜的制备及还原 | 第35页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第35-46页 |
| 2.4.1 PEI修饰改性GO | 第35-38页 |
| 2.4.2 PEI-rGO薄膜的性能研究 | 第38-46页 |
| 2.5 本章小结 | 第46-48页 |
| 第三章 PEI-rGO/PAN复合薄膜的制备及性能研究 | 第48-62页 |
| 3.1 前言 | 第48页 |
| 3.2 实验原料和设备 | 第48-49页 |
| 3.2.1 实验原料和仪器 | 第48页 |
| 3.2.2 测试设备 | 第48-49页 |
| 3.3 样品的制备 | 第49-50页 |
| 3.3.1 GO的制备及表面修饰和还原 | 第49页 |
| 3.3.2 PEI-GO/PAN复合薄膜的制备及还原 | 第49-50页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第50-59页 |
| 3.4.1 PEI-rGO/PAN复合薄膜的性能研究 | 第50-57页 |
| 3.4.2 rGO,PEI-rGO,PEI-rGO/PAN薄膜的性能比较 | 第57-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-62页 |
| 第四章 pH值对石墨烯膜性能的影响 | 第62-78页 |
| 4.1 前言 | 第62页 |
| 4.2 实验原料和设备 | 第62-64页 |
| 4.2.1 实验原料和仪器 | 第62-63页 |
| 4.2.2 测试设备 | 第63-64页 |
| 4.3 样品的制备 | 第64页 |
| 4.3.1 氧化石墨的制备 | 第64页 |
| 4.3.2 氧化石墨膜的制备及还原 | 第64页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第64-76页 |
| 4.4.1 S法与H法氧化石墨的对比 | 第64-68页 |
| 4.4.2 不同pH值的氧化石墨膜 | 第68-73页 |
| 4.4.3 石墨烯膜 | 第73-76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-78页 |
| 第五章 结论部分 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 研究成果和发表的学术论文 | 第88-90页 |
| 作者和导师简介 | 第90-92页 |
| 附件 | 第92-93页 |
