| 第一章 绪论 | 第1-10页 |
| 第二章 实验原理 | 第10-22页 |
| 2．1 XeI形成基本原理 | 第10-14页 |
| 2．2 直流辉光放电简介 | 第14-17页 |
| 2．3 介质阻挡放电简介 | 第17-18页 |
| 2．4 荧光发射谱原理 | 第18页 |
| 2．5 放电等离子体中电子温度的测量 | 第18-22页 |
| 2．5．1 单探针法测量电子温度 | 第19-21页 |
| 2．5．2 光谱法测量电子温度 | 第21-22页 |
| 第三章 实验装置 | 第22-26页 |
| 3．1 直流辉光放电的实验装置 | 第22-23页 |
| 3．2 高频介质阻挡放电的实验装置 | 第23-24页 |
| 3．3 电子温度测量的实验装置 | 第24-26页 |
| 3．3．1 单探针法测量电子温度的实验装置 | 第24-25页 |
| 3．3．2 光谱法测量电子温度的实验装置 | 第25-26页 |
| 第四章 实验结果与讨论 | 第26-36页 |
| 4．1 直流辉光放电等离子体中XeI形成过程 | 第26-31页 |
| 4．2 高频介质阻挡放电等离子体中XeI形成过程 | 第31-36页 |
| 第五章 结束语 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |