| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| ·超导发展简史 | 第9-11页 |
| ·高温超导材料结构 | 第11-13页 |
| ·国内外研究现状和研究意义 | 第13-15页 |
| ·高温超导大膜的研究现状 | 第13页 |
| ·高温超导大膜进行研究的意义 | 第13-15页 |
| ·本文研究的目的和研究内容 | 第15-16页 |
| ·本文研究的目的 | 第15页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第15-16页 |
| 2 实验原理 | 第16-23页 |
| ·表面电阻微波测量原理及测量 | 第16-18页 |
| ·测试原理和结构 | 第16-17页 |
| ·测试系统 | 第17-18页 |
| ·临界电流密度测量方法 | 第18页 |
| ·输运性质测量 | 第18-19页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第19-21页 |
| ·扫描电镜 | 第21-23页 |
| 3 高温超导YBCO 大膜的制备与研究 | 第23-31页 |
| ·脉冲激光沉积设备简介 | 第23-25页 |
| ·激光沉积技术的原理 | 第25-27页 |
| ·基本原理 | 第25页 |
| ·激光沉积的物理过程 | 第25-26页 |
| ·等离子羽辉 | 第26-27页 |
| ·沉积参数 | 第27页 |
| ·YBCO 薄膜性能表征 | 第27-30页 |
| ·临界电流密度 | 第27-29页 |
| ·表面电阻 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 4 TBCCO 大膜的制备与研究 | 第31-45页 |
| ·非原位坩埚法制备TBCCO 大膜 | 第31-35页 |
| ·前驱膜和铊源的制备 | 第31-34页 |
| ·铊化设备和具体的工艺 | 第34-35页 |
| ·Tl 源、Tl2212 膜制备条件与 Tl 源性质 | 第35-37页 |
| ·Tl2212 膜的性能表征 | 第37-44页 |
| ·膜的R-T 和XRD 测量 | 第37页 |
| ·前驱膜的SEM 测量 | 第37-39页 |
| ·Tl2212 膜的 SEM 测量 | 第39-40页 |
| ·临界电流密度Jc 和表面电阻 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 5 TBCCO 离子注入 | 第45-51页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·注入参数与结果 | 第46-50页 |
| ·R-T 测量结果 | 第47页 |
| ·XRD 测量结果 | 第47-49页 |
| ·J_c 测量结果 | 第49-50页 |
| ·结论 | 第50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 6 总结与展望 | 第51-52页 |
| ·本文工作主要内容与结论 | 第51页 |
| ·后续研究工作的展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 附录 | 第58-60页 |
| A 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第58页 |
| B 作者在攻读硕士学位期间取得的科研成果目录 | 第58-60页 |