铜掺杂类金刚石纳米尖点阵列研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-32页 |
| ·等离子体及其特征 | 第9-11页 |
| ·等离子体的概念 | 第9页 |
| ·等离子体的特征量 | 第9-10页 |
| ·等离子体的诊断 | 第10-11页 |
| ·真空场发射理论基础 | 第11-18页 |
| ·场致发射理论 | 第11页 |
| ·金属场致发射方程 | 第11-14页 |
| ·半导体的场致发射 | 第14-18页 |
| ·碳基材料简介 | 第18-24页 |
| ·金刚石 | 第18-19页 |
| ·碳纳米管 | 第19-20页 |
| ·类金刚石 | 第20-21页 |
| ·无氢类金刚石 | 第21-22页 |
| ·DLC膜的结构 | 第22页 |
| ·DLC膜的sp~3/sp~2成分分析 | 第22页 |
| ·类金刚石薄膜及类金刚石尖点阵列的场发射 | 第22-24页 |
| ·研究进展 | 第24-27页 |
| ·本章小结 | 第27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 第二章 氧化铝模板的制备及表征 | 第32-44页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·阳极氧化铝膜的类型 | 第32-33页 |
| ·多孔氧化铝膜的制备工艺 | 第33-35页 |
| ·多孔氧化铝膜的结构类型 | 第35-36页 |
| ·KHR模型 | 第35页 |
| ·三层结构模型 | 第35-36页 |
| ·胶体结构模型 | 第36页 |
| ·多孔氧化铝膜的形成机理 | 第36-37页 |
| ·多孔阳极氧化铝模板的制备 | 第37-41页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·实验部分 | 第38-40页 |
| ·实验结果与分析 | 第40-41页 |
| ·结论 | 第41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 第三章 铜掺杂类金刚石尖点阵列的制备 | 第44-51页 |
| ·磁过滤沉积设备及其改进 | 第44-48页 |
| ·磁过滤沉积设备简介 | 第44-46页 |
| ·磁过滤沉积设备的改进 | 第46-48页 |
| ·实验过程 | 第48-50页 |
| ·碳靶预处理 | 第48页 |
| ·模板预处理 | 第48-49页 |
| ·基底预处理 | 第49页 |
| ·样品预处理 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第四章 实验结果分析 | 第51-77页 |
| ·测试仪器简介 | 第51-54页 |
| ·实验结果及分析 | 第54-75页 |
| ·掺铜DLC纳米点阵列的形貌表征 | 第54-55页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第55-61页 |
| ·X光电子能谱测试 | 第61-71页 |
| ·场发射性能测试 | 第71-75页 |
| ·本章小结 | 第75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 第五章 结论 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 附录 | 第79页 |
