1540nm带通滤光片的研究与制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·薄膜的发展 | 第7-8页 |
| ·带通滤光片膜系设计的研究 | 第8页 |
| ·监控策略、误差分析及镀制工艺的研究 | 第8-9页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第9页 |
| ·论文研究的主要工作 | 第9-11页 |
| 第二章 薄膜光学的基本理论 | 第11-18页 |
| ·单一界面的反射率 | 第11-12页 |
| ·薄膜的矩阵表示 | 第12-13页 |
| ·介质光学薄膜的特征矩阵 | 第13-14页 |
| ·对称膜系的等效折射率 | 第14-18页 |
| 第三章 带通滤光片的设计 | 第18-34页 |
| ·选择薄膜材料的依据 | 第18-19页 |
| ·选择薄膜材料 | 第19-20页 |
| ·设计膜系 | 第20-23页 |
| ·膜系确定 | 第23-26页 |
| ·透射率峰值两边旁通带的抑制 | 第26-29页 |
| ·带通滤光片光学稳定性的分析 | 第29-34页 |
| 第四章 镀膜设备 | 第34-53页 |
| ·镀膜真空室 | 第35-36页 |
| ·真空系统(也称抽气系统) | 第36-39页 |
| ·真空测量系统 | 第39-42页 |
| ·膜厚控制系统 | 第42-45页 |
| ·离子辅助沉积技术 | 第45-46页 |
| ·镀膜均匀性的讨论 | 第46-50页 |
| ·制备工艺过程 | 第50-52页 |
| ·注意事项 | 第52页 |
| ·实验数据 | 第52-53页 |
| 第五章 测试结果与分析 | 第53-55页 |
| ·光学薄膜透过率的测量原理 | 第53页 |
| ·测试结果分析 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
