| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-22页 |
| ·引言 | 第15-17页 |
| ·金刚石膜中残余应力的产生及影响 | 第17-18页 |
| ·金刚石膜中残余应力的产生 | 第17页 |
| ·残余应力对金刚石膜的影响 | 第17-18页 |
| ·金刚石膜应力的研究现状 | 第18-19页 |
| ·本文的研究意义与主要内容 | 第19-22页 |
| ·本文研究意义 | 第19-20页 |
| ·本文主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章 HFCVD 膜应力仿真分析与实验研究的基本原理与方法 | 第22-34页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·热应力的计算理论 | 第22-27页 |
| ·有限元技术介绍 | 第22-23页 |
| ·HFCVD 热应力有限元计算的理论基础 | 第23-27页 |
| ·残余应力的理论基础 | 第27-30页 |
| ·残余应力产生机理 | 第27-28页 |
| ·各种应力模型 | 第28-30页 |
| ·残余应力的测试 | 第30-33页 |
| ·残余应力分类 | 第30-32页 |
| ·残余应力测试的各种方法 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 金刚石厚膜热应力的有限元仿真研究 | 第34-54页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·有限元软件ANSYS 简介 | 第34-37页 |
| ·有限元软件介绍 | 第34-35页 |
| ·ANSYS 的功能 | 第35-36页 |
| ·ANSYS 的特点 | 第36-37页 |
| ·有限元模型的建立与实验验证 | 第37-44页 |
| ·有限元模型的简化假设 | 第37-38页 |
| ·ANSYS 有限元模型的建立 | 第38-42页 |
| ·有限元模型的实验验证 | 第42-44页 |
| ·金刚石膜沉积实验 | 第42-43页 |
| ·ANSYS 仿真结果验证 | 第43-44页 |
| ·ANSYS 有限元仿真分析 | 第44-49页 |
| ·HFCVD 金刚石膜热应力仿真结果分析 | 第44-45页 |
| ·工艺参数对金刚石膜热应力影响 | 第45-49页 |
| ·HFCVD 金刚石膜的初始温度分布对热应力的影响 | 第45-46页 |
| ·HFCVD 金刚石膜的半径对热应力的影响 | 第46-47页 |
| ·金刚石膜的膜厚对热应力的影响 | 第47页 |
| ·金刚石膜的沉积温度对热应力的影响 | 第47-48页 |
| ·金刚石膜的冷却速度对热应力的影响 | 第48页 |
| ·金刚石膜的衬底材料对热应力的影响 | 第48-49页 |
| ·有限元仿真软件的开发 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 HFCVD 金刚石膜生长应力的研究 | 第54-65页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·HFCVD 金刚石膜工艺参数单因素实验 | 第54-63页 |
| ·金刚石膜的制备 | 第54页 |
| ·Raman 光谱测试 | 第54页 |
| ·应力的测试 | 第54-58页 |
| ·X 射线衍射法测量原理 | 第54-57页 |
| ·XRD 残余应力测试相关参数 | 第57-58页 |
| ·扫描电镜相关参数 | 第58页 |
| ·工艺参数对金刚石膜生长应力的影响 | 第58-63页 |
| ·甲烷浓度对金刚石膜应力的影响 | 第58-59页 |
| ·栅极偏压电流对金刚石膜应力的影响 | 第59-61页 |
| ·反应室气压对金刚石膜应力的影响 | 第61-62页 |
| ·沉积温度对金刚石膜应力的影响 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·总结 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第70页 |