摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
1 绪论 | 第11-19页 |
1.1 研究背景和意义 | 第11页 |
1.2 染料废水的现状以及处理废水的技术 | 第11-12页 |
1.3 光催化高级氧化法 | 第12-13页 |
1.3.1 光催化降解染料的基本原理 | 第12-13页 |
1.3.2 光催化降解染料的研究进展 | 第13页 |
1.4 光芬顿高级氧化法 | 第13-14页 |
1.4.1 光芬顿降解染料的基本原理 | 第13-14页 |
1.4.2 光芬顿降解染料的研究进展 | 第14页 |
1.5 光芬顿与光催化高级氧化法半导体的研究及选择 | 第14-15页 |
1.6 动力学研究 | 第15-17页 |
1.6.1 动力学研究的最新进展 | 第15-16页 |
1.6.2 动力学方程 | 第16-17页 |
1.7 研究目的与内容 | 第17-19页 |
1.7.1 研究目的 | 第17页 |
1.7.2 研究内容 | 第17-19页 |
2 实验部分 | 第19-23页 |
2.1 实验试剂 | 第19页 |
2.2 实验仪器及设备 | 第19页 |
2.3 光电性能测试及电极的制备 | 第19页 |
2.4 样品的表征 | 第19-21页 |
2.4.1 扫描电子显微镜 | 第19页 |
2.4.2 X射线衍射 | 第19-20页 |
2.4.3 傅里叶变化红外光谱 | 第20页 |
2.4.4 紫外-可见光漫反射光谱 | 第20页 |
2.4.5 光致发光荧光谱 | 第20页 |
2.4.6 比表面积测定 | 第20页 |
2.4.7 X射线光电子能谱 | 第20页 |
2.4.8 线性伏安扫描(LSV) | 第20页 |
2.4.9 时间电流曲线(I-t) | 第20-21页 |
2.4.10 电化学阻抗谱(EIS) | 第21页 |
2.5 光芬顿与光催化降解染料测试 | 第21-23页 |
2.5.1 光源 | 第21页 |
2.5.2 实验装置 | 第21-22页 |
2.5.3 评价方法 | 第22-23页 |
3 基于Fe掺杂g-C_3N_4的污染物光降解及动力学 | 第23-35页 |
3.1 引言 | 第23页 |
3.2 样品的制备 | 第23-24页 |
3.3 结果与讨论 | 第24-33页 |
3.3.1 形貌分析 | 第24页 |
3.3.2 组成与结构分析 | 第24-27页 |
3.3.3 光吸收特性分析 | 第27-28页 |
3.3.4 光电化学分析 | 第28-29页 |
3.3.5 光降解性能与动力学研究 | 第29-31页 |
3.3.6 催化剂的稳定性 | 第31-32页 |
3.3.7 光芬顿降解的反应机理 | 第32-33页 |
3.4 本章小结 | 第33-35页 |
4 基于g-C_3N_4的免双氧水光芬顿污染物降解及动力学 | 第35-52页 |
4.1 引言 | 第35页 |
4.2 样品的制备 | 第35页 |
4.3 结果与讨论 | 第35-50页 |
4.3.1 形貌分析 | 第36页 |
4.3.2 组成与结构分析 | 第36-39页 |
4.3.3 光吸收特性分析 | 第39-41页 |
4.3.4 光降解性能与动力学研究 | 第41-45页 |
4.3.5 催化剂的稳定性 | 第45-47页 |
4.3.6 免双氧水光降解的反应机理 | 第47-50页 |
4.4 本章小结 | 第50-52页 |
5 基于BiVO_4的免双氧水光芬顿污染物降解及动力学 | 第52-62页 |
5.1 引言 | 第52页 |
5.2 样品的制备 | 第52-53页 |
5.3 结果与讨论 | 第53-61页 |
5.3.1 形貌分析 | 第53页 |
5.3.2 组成与结构分析 | 第53-54页 |
5.3.3 光降解有机染料的性能及动力学研究 | 第54-57页 |
5.3.4 光降解诺氟沙星的性能及动力学研究 | 第57-58页 |
5.3.5 催化剂的稳定性 | 第58-59页 |
5.3.6 免双氧水光芬顿降解的反应机理 | 第59-61页 |
5.4 本章小结 | 第61-62页 |
6 结论与展望 | 第62-64页 |
6.1 主要结论 | 第62页 |
6.2 研究展望 | 第62-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-74页 |
附录 | 第74页 |