| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 1 前言 | 第6-17页 |
| ·显示器件概述 | 第6-7页 |
| ·PDP 发展历史及现状 | 第7-9页 |
| ·AC PDP 介质保护膜研究进展 | 第9-17页 |
| 2 薄膜制备与分析方法 | 第17-24页 |
| ·MG－ZR-O 薄膜制备方法与设备 | 第17-19页 |
| ·薄膜分析测试方法 | 第19-24页 |
| 3 ZR 含量对MG-ZR-O 介质保护膜结构与性能的影响 | 第24-34页 |
| ·实验方法与设备 | 第24-25页 |
| ·结果与分析 | 第25-32页 |
| ·小结 | 第32-34页 |
| 4 基体偏压对MG-ZR-O 介质保护膜的影响 | 第34-42页 |
| ·实验方法与设备 | 第34页 |
| ·结果与分析 | 第34-40页 |
| ·小结 | 第40-42页 |
| 5 非平衡磁控溅射沉积MG-ZR-O 介质保护膜的特性 | 第42-51页 |
| ·实验与测试方法 | 第43页 |
| ·实验结果与分析 | 第43-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 6 结论 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-65页 |