| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-21页 |
| ·交换偏置机制 | 第9-11页 |
| ·影响交换偏置的因素 | 第11-14页 |
| ·铁磁层的厚度 | 第11页 |
| ·反铁磁层厚度 | 第11-12页 |
| ·反铁磁层结构取向对交换偏置场的影响 | 第12页 |
| ·界面的粗糙度 | 第12-13页 |
| ·晶粒尺寸 | 第13页 |
| ·交换偏置的温度效应 | 第13-14页 |
| ·交换偏置中常用的反铁磁材料 | 第14-21页 |
| ·面心立方(fcc)的无序金属合金 | 第15-16页 |
| ·体心四方(bct)的无序金属合金 | 第16页 |
| ·面心四方(fct)有序金属合金 | 第16页 |
| ·反铁磁氧化物 | 第16-21页 |
| 第二章 样品的制备和分析测试原理 | 第21-32页 |
| ·薄膜样品的沉积方法 | 第21-23页 |
| ·基片的洗涤方法 | 第23-24页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第23-24页 |
| ·硅基片的清洗 | 第24页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第24-28页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第24-25页 |
| ·薄膜形貌的表征 | 第25-27页 |
| ·X射线衍射分析 | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第27页 |
| ·薄膜成分的表征 | 第27-28页 |
| ·俄歇电子能谱(AES) | 第27-28页 |
| ·电子能量色散谱(EDX) | 第28页 |
| ·X射线电子能谱(XPS) | 第28页 |
| ·二次离子质谱(SIMS) | 第28页 |
| ·薄膜磁性的测量 | 第28-30页 |
| ·本实验所采用的实验设备 | 第30-32页 |
| 第三章 NiFe/PtMn双层膜交换偏置研究 | 第32-47页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验方法 | 第32-33页 |
| ·实验结果及讨论 | 第33-44页 |
| ·(Ni_(0.81)Fe_(0.19))_(1-X)Cr_X作为种子层对 NiFe/PtMn双层膜交换偏置的影响 | 第33-39页 |
| ·交换偏置场与 PtMn薄膜织构的关系 | 第34-35页 |
| ·交换偏置场与反铁磁层晶粒尺寸的关系 | 第35-37页 |
| ·样品界面的粗糙度对交换偏置场的影响 | 第37-39页 |
| ·小结 | 第39页 |
| ·PtMn层的厚度对 NiFe/PtMn双层膜交换偏置的形成及热稳定性影响 | 第39-44页 |
| ·交换偏置场与临界尺度的关系 | 第41-43页 |
| ·NiFe/PtMn双层膜中热稳定性与晶粒织构的关系 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44页 |
| ·结论 | 第44-47页 |
| 致谢 | 第47页 |
