| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-18页 |
| ·课题研究背景 | 第11-12页 |
| ·高清PDP 研究现状 | 第12-16页 |
| ·PDP 驱动电路及结构研究现状 | 第13页 |
| ·PDP 新材料研究现状 | 第13-16页 |
| ·本课题的研究意义 | 第16-17页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 PDP 工作原理及相关气体放电理论 | 第18-26页 |
| ·交流表面放电PDP 工作原理 | 第18-20页 |
| ·气体放电理论 | 第20-24页 |
| ·汤生气体放电理论和帕郉定律 | 第21-23页 |
| ·放电气体分子与电极表面作用理论 | 第23-24页 |
| ·气体放电相似定律 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-26页 |
| 第三章 LaB_6薄膜的制备和主要测试手段 | 第26-40页 |
| ·LaB_6 材料性质和LaB_6 薄膜主要制备方法 | 第26-29页 |
| ·LaB_6 材料性质 | 第26-28页 |
| ·LaB_6 薄膜主要制备方法及制备法的选用 | 第28-29页 |
| ·电子束蒸发法制备LaB_6 薄膜装置设计 | 第29-30页 |
| ·LaB_6 薄膜制备前的准备工作 | 第30-32页 |
| ·LaB_6 靶材的准备 | 第31页 |
| ·PDP 用玻璃衬底的准备 | 第31-32页 |
| ·LaB_6 薄膜的制备过程 | 第32-33页 |
| ·LaB_6 薄膜主要测试仪器及方法概述 | 第33-38页 |
| ·XRD 测试 | 第34-36页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第36-37页 |
| ·光学性能测试 | 第37-38页 |
| ·薄膜方块电阻测试 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 适用于PDP 放电单元的LaB_6薄膜性能与工艺研究 | 第40-62页 |
| ·多晶LaB_6 靶材研究和PDP 封接工艺对LaB_6 薄膜的影响 | 第40-45页 |
| ·多晶LaB_6 靶材的晶面分析 | 第41-42页 |
| ·PDP 封接工艺对LaB_6 薄膜的影响研究 | 第42-45页 |
| ·薄膜制备工艺参数的优化 | 第45-53页 |
| ·蒸发角度对LaB_6 薄膜的影响 | 第45-48页 |
| ·真空度对LaB_6 薄膜的影响 | 第48-50页 |
| ·衬底温度对LaB_6 薄膜的影响 | 第50-52页 |
| ·优化的工艺参数小结 | 第52-53页 |
| ·LaB_6 薄膜光学特性和导电特性研究 | 第53-57页 |
| ·LaB_6 薄膜光学性能研究 | 第54-55页 |
| ·LaB_6 薄膜导电特性研究 | 第55-57页 |
| ·LaB_6 薄膜的逸出功研究 | 第57-61页 |
| ·TaC 保护层制备研究 | 第58-59页 |
| ·逸出功测试装置及测试电路设计 | 第59-60页 |
| ·LaB_6 薄膜逸出功研究 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 适用于PDP 的LaB_6薄膜放电特性研究 | 第62-73页 |
| ·使用LaB_6 薄膜的PDP 模拟放电单元的设计及制备 | 第62-65页 |
| ·PDP 面板封接工艺研究和改良 | 第62-64页 |
| ·PDP 模拟放电单元的设计及制备 | 第64-65页 |
| ·PDP 模拟放电单元测试电路设计 | 第65-66页 |
| ·PDP 模拟放电单元放电特性研究 | 第66-71页 |
| ·三种模拟放电单元着火电压测试与分析 | 第67-69页 |
| ·三种模拟放电单元放电建立时间测试与分析 | 第69-71页 |
| ·本章小节 | 第71-73页 |
| 第六章 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·论文研究工作总结 | 第73-74页 |
| ·下一步工作展望 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-81页 |
| 作者攻硕期间的研究成果 | 第81-82页 |
