| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-27页 |
| ·铁电薄膜材料的研究概况 | 第10-15页 |
| ·铁电薄膜的制备技术 | 第15-18页 |
| ·铁电存储器的研究概况 | 第18-25页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第25-27页 |
| 2 铁电薄膜材料的选择及La 掺杂改性的理论研究 | 第27-38页 |
| ·铁电材料的选择及其晶体结构特征 | 第27-29页 |
| ·La 掺杂改善BTO 薄膜铁电性能和疲劳特性的机理 | 第29-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 3 Sol-Gel 法制备BTO 和BLT 薄膜及其微观结构分析 | 第38-55页 |
| ·Sol-Gel 法制备BTO 和BLT 薄膜 | 第38-44页 |
| ·BTO 和BLT 薄膜的微观结构分析 | 第44-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 4 MFM 结构BTO 和BLT 薄膜的铁电性能研究 | 第55-69页 |
| ·铁电性能测试设备和薄膜样品的参数 | 第55-56页 |
| ·La 掺杂对MFM 结构BTO 薄膜性能的影响 | 第56-58页 |
| ·MFM 结构BTO 薄膜的铁电性能 | 第58-60页 |
| ·MFM 结构BLT 薄膜的铁电性能及其它性能 | 第60-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 5 MFS 结构BTO 和BLT 薄膜的铁电性能研究 | 第69-77页 |
| ·铁电性能测试设备和薄膜样品的参数 | 第69页 |
| ·衬底对BTO 和BLT 薄膜电滞回线的影响 | 第69-71页 |
| ·MFS 结构BTO 和BLT 薄膜的电滞回线测量 | 第71-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 6 慢正电子束研究BTO 和BLT 铁电薄膜 | 第77-101页 |
| ·慢正电子束技术简介 | 第77-84页 |
| ·BTO 和BLT 铁电薄膜测试样品准备 | 第84-87页 |
| ·慢正电子束技术研究BTO 和BLT 铁电薄膜 | 第87-100页 |
| ·本章小结 | 第100-101页 |
| 7 全文总结 | 第101-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-116页 |
| 附录1 攻读学位期间发表的论文目录 | 第116页 |
