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纳米结构Ni-SiC复合薄膜的电化学制备及其相关理论研究

摘要第1-10页
ABSTRACT第10-12页
第一章 绪论第12-34页
 1 前言第12-14页
 2 纳米材料的基本特性第14-15页
   ·量子尺寸效应第14页
   ·表面和界面效应第14-15页
   ·小尺寸效应第15页
   ·宏观量子隧道效应第15页
 3 纳米复合镀技术第15-28页
   ·电沉积制备纳米材料的方法第16-17页
   ·纳米复合镀层的分类第17-22页
     ·防护与装饰性纳米复合镀层第18-19页
     ·耐磨性纳米复合镀层第19-20页
     ·耐高温抗氧化纳米复合镀层第20页
     ·具有催化性能的纳米复合镀层第20-21页
     ·自润滑纳米镀层第21页
     ·其它性能的纳米复合镀层第21-22页
   ·纳米颗粒与金属离子的共沉积机理第22-23页
   ·纳米复合电镀的国内外研究现状第23-28页
     ·纳米复合电镀的国内外研究现状第24-25页
     ·纳米复合镀存在的问题第25-26页
     ·纳米粒子的团聚现象以及解决方法第26-28页
 4 本课题的研究目的、意义和研究内容第28-29页
   ·目的和意义第28页
   ·研究内容第28-29页
 本章参考文献第29-34页
第二章 实验内容与测试方法第34-40页
 1 化学试剂和实验仪器第34-35页
   ·实验用化学试剂及规格第34-35页
   ·实验仪器第35页
 2 镀前的准备工作第35-36页
   ·镀液的配置第35-36页
   ·电极的处理第36页
 3 实验方法及装置第36-37页
   ·纳米SiC粒子零电荷电位的测定第36页
   ·Ni-SiC纳米复合薄膜的制备第36-37页
 4 测试方法第37-39页
   ·表面形貌观测第37-38页
     ·扫描电子显微镜测试第37页
     ·原子力显微镜测试第37页
     ·透射电境测试第37页
     ·XRD测试第37-38页
   ·电化学测试方法第38-39页
     ·循环伏安的测试第38页
     ·计时安培的测试第38页
     ·电化学阻抗谱的测试第38-39页
 本章参考文献第39-40页
第三章 Ni-SiC纳米复合薄膜的电沉积工艺研究第40-60页
 1 引言第40-41页
 2 实验方法第41-45页
   ·盐添加物法第41-42页
   ·电位滴定法第42-43页
   ·TiN粒子的零电荷电位测定第43-45页
 3 电沉积的主要工艺参数对Ni-SiC复合薄膜结构的影响第45-52页
   ·电流密度的影响第46-48页
   ·SiC粒子的含量第48-49页
   ·搅拌速度的影响第49-51页
   ·溶液pH的影响第51页
   ·温度的影响第51-52页
 4 优化的Ni-SiC复合薄膜的表征第52-56页
   ·扫描电境(SEM)第53-54页
   ·原子力显微镜(AFM)第54页
   ·透射电境(TEM)第54-56页
   ·X射线衍射测试(XRD)第56页
 5 本章小结第56-58页
 本章参考文献第58-60页
第四章 Ni-SiC纳米复合薄膜的电沉积机理研究第60-78页
 1 引言第60页
 2 实验部分第60-62页
   ·循环伏安测试(CV)第61页
   ·计时安培测试(CHR)第61页
   ·电化学阻抗测试(EIS)第61-62页
 3 结果与讨论第62-73页
   ·循环伏安法分析第62-63页
   ·计时安培分析第63-66页
   ·电化学阻抗谱分析第66-73页
     ·Ni电沉积过程的电化学阻抗谱分析第66-69页
     ·Ni-SiC电沉积过程的电化学阻抗谱分析第69-73页
 4 本章小结第73-75页
 本章参考文献第75-78页
第五章 Ni-SiC纳米复合薄膜的电催化性能的初步研究第78-88页
 1 前言第78页
 2 实验部分第78-79页
   ·循环伏安测试第78-79页
   ·电化学阻抗谱测试第79页
   ·扫描电境测试第79页
 3 结果与讨论第79-83页
   ·循环伏安测试第79-80页
   ·电化学阻抗谱测试第80-82页
   ·扫描电境测试第82-83页
 4 不同含量纳米SiC复合薄膜的电催化析氢性能的初步探讨第83-86页
   ·实验方法第83-84页
   ·结果与讨论第84-86页
 5 本章小结第86-87页
 本章参考文献第87-88页
第六章 总结与展望第88-91页
 1 总结第88-90页
 2 工作展望第90-91页
致谢第91-92页
攻读硕士学位期间发表的论文第92-93页
独创性声明第93页
学位论文版权使用授权书第93页

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