| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-22页 |
| 1．1 引言 | 第8页 |
| 1．2 PbO的基本性质和应用 | 第8-13页 |
| 1．2．1 PbO的晶体结构 | 第8-9页 |
| 1．2．2 PbO的气敏性质 | 第9-10页 |
| 1．2．3 PbO在现代技术中的一些应用 | 第10-13页 |
| 1．2．3．1 一次性光存储 | 第10-11页 |
| 1．2．3．2 铅摄像管 | 第11-12页 |
| 1．2．3．3 X射线成像 | 第12-13页 |
| 1．3 氧化物薄膜制备技术简介 | 第13-20页 |
| 1．3．1 溶胶凝胶(Sol-gel) | 第13-15页 |
| 1．3．2 喷雾裂解(Spray) | 第15页 |
| 1．3．3 化学气相沉积(CVD) | 第15-17页 |
| 1．3．4 激光脉冲沉积(PLD) | 第17-19页 |
| 1．3．5 磁控溅射 | 第19-20页 |
| 1．4 本文选题角度和研究目的 | 第20-21页 |
| 1．5 本章小结 | 第21-22页 |
| 第二章 直流反应磁控溅射的成膜原理与工艺 | 第22-34页 |
| 2．1 引言 | 第22页 |
| 2．2 溅射镀膜原理 | 第22-29页 |
| 2．2．1 真空 | 第22-23页 |
| 2．2．2 辉光放电 | 第23-26页 |
| 2．2．3 溅射现象和机理 | 第26-28页 |
| 2．2．4 溅射粒子成膜过程 | 第28-29页 |
| 2．3 直流反应磁控溅射的基本原理 | 第29-32页 |
| 2．3．1 直流磁控溅射的基本原理 | 第29-31页 |
| 2．3．1．1 电子在正交电场和磁场中的运动 | 第29-30页 |
| 2．3．1．2 磁控溅射的基本原理 | 第30-31页 |
| 2．3．2 直流反应磁控溅射的特点 | 第31-32页 |
| 2．4 磁控溅射系统 | 第32-33页 |
| 2．5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 直流反应磁控溅射制备 PbO薄膜与性能表征 | 第34-48页 |
| 3．1 引言 | 第34页 |
| 3．2 实验过程 | 第34-36页 |
| 3．2．1 实验设备 | 第34-35页 |
| 3．2．2 实验步骤 | 第35-36页 |
| 3．3 PbO薄膜性能的测试结果与讨论 | 第36-47页 |
| 3．3．1 小角度 XRR的测试 | 第36-39页 |
| 3．3．1．1 小角度 XRR测试原理 | 第36-38页 |
| 3．3．1．2 Ar和O_2流量比对 PbO薄膜生长速率的影响 | 第38-39页 |
| 3．3．1．3 衬底温度对 PbO薄膜生长速率的影响 | 第39页 |
| 3．3．2 XRD测试 | 第39-43页 |
| 3．3．2．1 XRD测试原理 | 第40-41页 |
| 3．3．2．2 Ar和 O_2流量比对 PbO薄膜晶体结构的影响 | 第41-42页 |
| 3．3．2．3 衬底温度对 PbO薄膜晶体结构的影响 | 第42-43页 |
| 3．3．3 UV-VIS测试 | 第43-47页 |
| 3．3．3．1 UV-VIS测试原理 | 第43页 |
| 3．3．3．2 Ar和 O_2流量比对 PbO薄膜 UV-VIS透射谱的影响 | 第43-45页 |
| 3．3．3．3 衬底温度对 PbO薄膜 UV-VIS透射谱的影响 | 第45-47页 |
| 3．4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 磁控溅射制备 Cd_xPb_(1-x)O薄膜与性能表征 | 第48-60页 |
| 4．1 引言 | 第48页 |
| 4．2 实验过程 | 第48-50页 |
| 4．2．1 实验设计 | 第48-49页 |
| 4．2．2 实验条件 | 第49-50页 |
| 4．3 Cd_xPb_(1-x)O薄膜的测试结果与讨论 | 第50-59页 |
| 4．3．1 XRD测试 | 第50-51页 |
| 4．3．1．1 Cd含量对 Cd_xPb_(1-x)O薄膜晶体结构的影响 | 第50页 |
| 4．3．1．2 衬底温度对 Cd_xPb_(1-x)O薄膜晶体结构的影响 | 第50-51页 |
| 4．3．2 UV-VIS测试 | 第51-55页 |
| 4．3．2．1 Cd含量对 Cd_xPb_(1-x)O薄膜透射光谱的影响 | 第51-53页 |
| 4．3．2．2 衬底温度对 Cd_xPb_(1-x)O薄膜透射光谱的影响 | 第53-55页 |
| 4．3．3 Hall测试 | 第55-59页 |
| 4．3．3．1 Hall测试原理 | 第55-57页 |
| 4．3．3．2 Cd含量对 Cd_xPb_(1-x)O薄膜对电阻率的影响 | 第57-58页 |
| 4．3．3．3 衬底温度对 Cd_xPb_(1-x)O薄膜对电阻率的影响 | 第58-59页 |
| 4．4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
