| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪言 | 第8-13页 |
| ·磁学的发展 | 第8页 |
| ·磁性材料及其发展 | 第8-10页 |
| ·纳米两相复合永磁材料的研究现状及我们的工作 | 第10-13页 |
| 第二章 矫顽力机制 | 第13-17页 |
| ·微磁学理论 | 第13-15页 |
| ·微磁学的发展及现状 | 第13页 |
| ·微磁学分析中各种能量及分析方法 | 第13-15页 |
| ·矫顽力机制模型 | 第15-17页 |
| ·Stoner-Wohlfarth (SW)模型 | 第15-16页 |
| ·磁畴壁移动模型 | 第16-17页 |
| 第三章 垂直取向硬/软磁性多层膜的磁化反转过程的微磁学研究 | 第17-29页 |
| ·引言 | 第17-18页 |
| ·微观模型 | 第18-19页 |
| ·成核场 | 第19-22页 |
| ·磁矩角度分布 | 第22-24页 |
| ·θ~s, θ~0 和θ~h随外磁场的变化关系 | 第24-25页 |
| ·宏观磁滞回线 | 第25-27页 |
| ·结语 | 第27-29页 |
| 第四章 界面交换耦合强度对 FePt/α-Fe/FePt 磁性三层膜磁化反转过程的影响 | 第29-41页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·微观模型 | 第29-32页 |
| ·计算结果及讨论 | 第32-39页 |
| ·成核场 | 第32-34页 |
| ·角度分布 | 第34-36页 |
| ·不同界面常数下的θ~s, θ_(0-)和θ_(0+) | 第36-38页 |
| ·成核场与钉扎场的比较 | 第38-39页 |
| ·结语 | 第39-41页 |
| 第五章 垂直取向硬/软磁性多层膜矫顽力机制的微磁学研究 | 第41-52页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·微观模型 | 第41-44页 |
| ·成核场 | 第44-46页 |
| ·磁滞回线 | 第46-51页 |
| ·结语 | 第51-52页 |
| 第六章 总结与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 在校期间的科研成果 | 第59页 |
