钛合金微等离子体氧化陶瓷膜的制备及性能研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| ·前言 | 第10页 |
| ·钛合金微等离子体氧化的特点 | 第10-11页 |
| ·钛合金微等离子体氧化装置及电解液体系 | 第11-13页 |
| ·微等离子体氧化装置 | 第11-12页 |
| ·电解液体系 | 第12-13页 |
| ·钛合金微等离子体氧化陶瓷膜的结构和性能 | 第13-15页 |
| ·膜表面形貌和相组成 | 第13-14页 |
| ·膜的性能 | 第14-15页 |
| ·钛合金微等离子体氧化的应用 | 第15页 |
| ·本课题的研究目的、意义及内容 | 第15-17页 |
| ·本课题的研究目的及意义 | 第15-16页 |
| ·本课题的研究内容 | 第16-17页 |
| 2 试验材料、设备及研究方法 | 第17-23页 |
| ·试验材料 | 第17-18页 |
| ·试验基体材料 | 第17页 |
| ·试验试剂 | 第17-18页 |
| ·微等离子体氧化处理电解液的配制 | 第18页 |
| ·试验设备 | 第18-19页 |
| ·微等离子体氧化处理系统 | 第18页 |
| ·陶瓷膜性能检测设备 | 第18-19页 |
| ·试验研究方法 | 第19-23页 |
| ·陶瓷膜制备工艺过程 | 第19-20页 |
| ·陶瓷膜性能检测 | 第20-23页 |
| 3 试验设计 | 第23-27页 |
| ·试验技术路线 | 第23-24页 |
| ·微等离子体氧化试验方案设计 | 第24-27页 |
| ·电解液配方的预选设计 | 第24-25页 |
| ·电解液配方的优化方案 | 第25页 |
| ·工艺参数的优化方案 | 第25-27页 |
| 4 陶瓷膜制备的试验过程 | 第27-45页 |
| ·微等离子体氧化电解液配方的预选 | 第27-31页 |
| ·磷酸盐体系电解液配方的预选 | 第27-28页 |
| ·铝酸盐体系电解液配方的预选 | 第28-30页 |
| ·磷酸盐-铝酸盐混合体系电解液配方的预选 | 第30-31页 |
| ·微等离子体氧化电解液配方的优化试验 | 第31-41页 |
| ·磷酸盐体系电解液配方的优化 | 第31-35页 |
| ·铝酸盐体系电解液配方的优化 | 第35-38页 |
| ·磷酸盐-铝酸盐混合体系电解液配方的优化 | 第38-41页 |
| ·微等离子体氧化工艺参数的优化 | 第41-44页 |
| ·电流密度的优化 | 第41-42页 |
| ·终极电压的优化 | 第42-43页 |
| ·氧化时间的优化 | 第43-44页 |
| ·最优工艺参数 | 第44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 5 试验结果分析与讨论 | 第45-55页 |
| ·微等离子体氧化试验现象观察 | 第45-46页 |
| ·陶瓷膜性能与电解液体系的关系 | 第46-47页 |
| ·陶瓷膜性能与电流密度的关系 | 第47-48页 |
| ·陶瓷膜性能与终极电压的关系 | 第48-49页 |
| ·陶瓷膜的XRD 分析 | 第49-51页 |
| ·陶瓷膜的形貌分析 | 第51-53页 |
| ·不同电解液体系时陶瓷膜的形貌分析 | 第51页 |
| ·不同电流密度时陶瓷膜的形貌分析 | 第51-52页 |
| ·不同终极电压时陶瓷膜的形貌分析 | 第52-53页 |
| ·陶瓷膜的截面形貌分析 | 第53页 |
| ·陶瓷膜常见缺陷分析与讨论 | 第53-55页 |
| ·膜层烧蚀 | 第53-54页 |
| ·微裂纹 | 第54页 |
| ·膜层色泽不均匀 | 第54-55页 |
| 6 微等离子体氧化机理探讨 | 第55-62页 |
| ·等离子体的产生机理 | 第55-57页 |
| ·等离子体的概念 | 第55页 |
| ·等离子体的产生 | 第55-57页 |
| ·陶瓷膜的烧结 | 第57-58页 |
| ·氧化钛陶瓷膜的形成条件分析 | 第58-59页 |
| ·氧化钛形成的电化学条件分析 | 第58-59页 |
| ·氧化钛形成的热力学条件分析 | 第59页 |
| ·微等离子体氧化陶瓷膜的生长动力学 | 第59-61页 |
| ·陶瓷膜的生长动力学模型 | 第61-62页 |
| 7 结论及展望 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 附录 | 第68-69页 |
