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射频磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜的微观组织与性能研究

第一章 绪论第1-24页
   ·选题意义第12-13页
   ·软磁铁氧体材料的研究现状和发展趋势第13-15页
     ·研究现状第13-14页
     ·发展趋势第14-15页
   ·软磁铁氧体粉体的制备和表征第15-18页
     ·铁氧体粉体的制备技术第15-17页
     ·铁氧体粉体的表征第17-18页
   ·软磁铁氧体薄膜的制备和表征第18-21页
     ·软磁铁氧体薄膜的制备技术第18-21页
     ·软磁铁氧体薄膜的表征第21页
   ·软磁铁氧体薄膜的应用第21-23页
     ·军事器件领域第22页
     ·电子产品领域第22页
     ·通信器件领域第22-23页
   ·本课题研究的主要内容第23-24页
第二章 NiZnCo铁氧体/SiO_2复合粉体的制备第24-32页
   ·溶胶—凝胶法粉体制各技术第24-26页
     ·溶胶—凝胶制备方法第24-25页
     ·溶胶—凝胶法制备过程的影响因素第25-26页
   ·NiZnCo铁氧体/SiO_2复合粉体的制备第26-29页
     ·实验原材料与设备第26-27页
     ·制备工艺流程第27-28页
     ·反应温度的影响第28页
     ·镍锌钴铁氧体复合粉体的DTA和TGA分析第28-29页
   ·粉体的表征第29-31页
     ·铁氧体粉体的物相分析第29-30页
     ·铁氧体粉体的化学组成第30页
     ·铁氧体粉体的SEM和TEM形貌分析第30-31页
     ·铁氧体粉体的晶粒粒径第31页
   ·本章小结第31-32页
第三章 磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜第32-42页
   ·磁控溅射法原理及特点第32-34页
     ·超高真空多功能磁控溅射简介第32页
     ·磁控溅射基本原理第32-33页
     ·射频磁控溅射的成膜特点第33-34页
   ·磁控溅射靶材的制备第34-38页
     ·靶材的质量要求第34-35页
     ·靶材的制备工艺第35-37页
     ·靶材的分析与测试第37-38页
   ·磁控溅射制备磁性薄膜复合材料第38-40页
     ·基体准备第38页
     ·溅射制备工艺的要求第38-39页
     ·磁控溅射制备铁氧体薄膜第39-40页
   ·薄膜后退火处理第40-41页
     ·实验材料及设备第40-41页
     ·薄膜后处理工艺第41页
   ·本章小结第41-42页
第四章 磁性薄膜的化学组成及其微结构第42-60页
   ·基片材料对磁性薄膜的影响第42-45页
     ·不同基片材料对薄膜化学组成的影响第42-43页
     ·不同基体材料上薄膜的物相分析第43-44页
     ·不同基体材料对薄膜微观形貌的影响第44-45页
   ·溅射工艺的优化第45-52页
     ·溅射功率对溅射(沉积)速率和薄膜形貌的影响第46-50页
     ·基体—靶材间距对溅射(沉积)速率和薄膜形貌的影响第50-52页
   ·后退火处理对薄膜的影响第52-55页
     ·后退火处理对薄膜化学组成的影响第52-53页
     ·后退火处理前后薄膜的物相分析第53-54页
     ·后退火处理对薄膜的微观形貌的影响第54-55页
   ·薄膜的晶体结构和成膜机理第55-58页
     ·薄膜的晶体结构第55-56页
     ·薄膜的成膜机理第56-58页
   ·本章小结第58-60页
第五章 铁氧体复合薄膜的磁性能与力学性能第60-70页
   ·薄膜的磁性能第60-65页
     ·铁氧体薄膜的磁滞回线第60-62页
     ·饱和磁化强度和矫顽力第62-65页
   ·薄膜的力学性能第65-69页
     ·薄膜与基体的界面结合强度(附着力)的测定方法第65-66页
     ·不同基体上薄膜—基体间的界面结合强度第66-68页
     ·不同膜厚的薄膜—基体间的界面结合强度第68-69页
   ·本章小结第69-70页
第六章 主要结论第70-72页
第七章 展望第72-74页
   ·NiZnCoFe_2O_4/SiO_2铁氧体复合薄膜的应用前景第72页
   ·本课题的后续工作第72-74页
参考文献第74-78页
致谢第78-79页
攻读硕士学位期间发表或录用的论文第79页

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