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高功率微波馈源介质输出窗的研究

第一章 引言第1-13页
   ·介质输出窗第7-9页
   ·辐射场的近场远场计算第9页
   ·输出窗对远场辐射图的影响的分析方法第9-11页
   ·本课题的工作第11-13页
第二章 口面场的近场和远场计算第13-29页
   ·近场计算第13-15页
   ·远场计算第15-19页
   ·近场远场计算结果第19-25页
     ·口面场分布为Taylor分布第19-20页
     ·口面场分布为高斯分布第20-25页
   ·远场辐射图的计算第25-28页
   ·本章小节第28-29页
第三章 并矢格林函数方法计算半球壳介质罩对辐射图的影响第29-53页
   ·由手性介质构成的介质球壳的并矢格林函数的导出第29-37页
   ·计算由给定的口面场分布计算经介质球壳后的辐射图第37-41页
   ·H_11模和高斯分布的辐射源经球壳结构辐射图计算结果第41-52页
     ·H_11模口面分布经半球壳介质罩作用的辐射图计算结果第41-45页
     ·高斯口面分布经半球壳介质罩作用的辐射图计算结果第45-52页
   ·本章小节第52-53页
第四章 采用两次近场计算的方法计算介质窗对辐射图的影响第53-66页
   ·局部平面上两种极化方式的透射系数的导出第53-54页
   ·两次近场计算方法计算通过输出窗的辐射图第54-65页
     ·通过板型输出窗的辐射图第55-58页
     ·通过类似半球壳输出窗的辐射图第58-65页
   ·本章小结第65-66页
参考文献第66-68页
致谢第68页

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