| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-11页 |
| ·SAW技术的发展概况 | 第9-10页 |
| ·研究意义 | 第10-11页 |
| ·声表面波滤波器 | 第11-18页 |
| ·SAWF的基本原理及其特点 | 第11-13页 |
| ·SAWF的基本特性 | 第13-14页 |
| ·SAWF的发展及应用 | 第14-16页 |
| ·高频SAWF的实现 | 第16-18页 |
| ·国内外研究现状 | 第18-19页 |
| ·本论文的主要工作 | 第19-20页 |
| 第二章 金刚石薄膜的基本性质、制备方法与测试手段 | 第20-37页 |
| ·金刚石薄膜简介 | 第20-24页 |
| ·基本结构 | 第20页 |
| ·基本性质与应用 | 第20-24页 |
| ·金刚石薄膜的制备方法 | 第24-30页 |
| ·热丝CVD法(HFCVD) | 第25-26页 |
| ·微波等离子体CVD法(MW-PCVD) | 第26-29页 |
| ·直流等离子体喷射CVD法(DC Plasma Jet CVD) | 第29-30页 |
| ·金刚石薄膜的表征手段 | 第30-37页 |
| ·X—射线衍射 | 第31-32页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第32-34页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第34-35页 |
| ·电阻率测量方法—Van der Pauw探针法 | 第35-37页 |
| 第三章 高声速材料金刚石薄膜的制备 | 第37-50页 |
| ·本论文所采用的实验方法 | 第37-38页 |
| ·金刚石薄膜的沉积 | 第38-48页 |
| ·灯丝的碳化 | 第39-42页 |
| ·形核 | 第42-46页 |
| ·薄膜生长 | 第46-48页 |
| ·粗糙度测试 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第四章 磁控溅射法制备压电薄膜ZnO | 第50-67页 |
| ·引言 | 第50-56页 |
| ·压电薄膜ZnO基本结构与性质 | 第51页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第51-56页 |
| ·Si衬底上ZnO的溅射生长 | 第56-61页 |
| ·衬底对薄膜取向的影响 | 第56-59页 |
| ·其它参数对薄膜性质的影响 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第61页 |
| ·金刚石薄膜上ZnO的溅射生长 | 第61-66页 |
| ·直流磁控溅射生长ZnO薄膜 | 第62-63页 |
| ·射频磁控溅射生长ZnO薄膜 | 第63-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第72页 |
| 攻读硕士学位期间参与的科研项目 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |