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CVD法制备定向纳米碳管及其表征

中文摘要第1-3页
英文摘要第3-4页
目录第4-6页
第一章 文献综述与研究目的第6-29页
 1.1 简介第6-9页
 1.2 组装法第9-10页
 1.3 原位合成法第10-19页
  1.3.1 预置催化剂热CVD法第10-16页
   1.3.1.1 氧化铝模板第10-13页
   1.3.1.2 多孔硅及二氧化硅第13-14页
   1.3.1.3 平基板第14-16页
  1.3.2 浮动催化剂法第16-17页
   1.3.2.1 二茂铁第16-17页
   1.3.2.2 酞菁铁第17页
  1.3.3 增强CVD法第17-18页
  1.3.4 生长机理第18-19页
 1.4 性能与应用第19-21页
  1.4.1 场发射性能第19-20页
  1.4.2 储氢性能第20页
  1.4.3 超疏水性与疏油性第20页
  1.4.4 红外探测器第20-21页
  1.4.5 传感器第21页
  1.4.6 电极材料第21页
 1.5 研究目的第21-22页
 参考文献第22-29页
第二章 测试表征方法基本原理简介第29-32页
 2.1 透射电镜(TEM)第29页
 2.2 扫描电镜(SEM)和能量色散谱(EDS)第29页
 2.3 激光拉曼光谱分析第29-30页
 2.4 原子力显微镜(AFM)第30-31页
 参考文献第31-32页
第三章 氧化铝模板的制备与表征第32-39页
 3.1 前言第32-33页
 3.2 实验第33-34页
  3.2.1 实验材料及所用化学试剂第33页
  3.2.2 实验仪器第33-34页
  3.2.3 实验过程第34页
 3.3 结果与讨论第34-37页
  3.3.1 SEM和TEM结果第34-36页
  3.3.2 AFM结果第36-37页
 3.4 小结第37页
 参考文献第37-39页
第四章 氧化铝模板上纳米碳管的生长第39-54页
 4.1 前言第39页
 4.2 实验第39-40页
  4.2.1 实验原料与器材第39页
  4.2.2 实验过程第39-40页
 4.3 结果与讨论第40-52页
  4.3.1 一次氧化AAO模板纳米碳管的生长第40-45页
   4.3.1.1 镀钴时间对AAO模板上含钴量的影响第40-43页
   4.3.1.2 纳米碳管的表征第43-45页
  4.3.2 二次氧化AAO上定向纳米碳管的快速生长第45-50页
   4.3.2.1 时间的影响第46-48页
   4.3.2.2 不同气体流量下碳管的生长情况第48-50页
  4.3.3 超声切短第50-52页
 4.4 小结第52页
 参考文献第52-54页
第五章 硅上定向纳米碳管的生长及其微结构表征第54-63页
 5.1 前言第54页
 5.2 实验材料与方法第54页
 5.3 实验结果与分析第54-62页
  5.3.1 Fe催化剂的处理与表征第54-55页
  5.3.2 纳米碳管的SEM表征第55-56页
  5.3.3 纳米碳管的TEM观察第56-62页
 5.4 小结第62页
 参考文献第62-63页
第六章 结论第63-64页
硕士生期间发表的论文及申请的专利第64-65页
致谢第65页

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