中文摘要 | 第1-3页 |
英文摘要 | 第3-4页 |
目录 | 第4-6页 |
第一章 文献综述与研究目的 | 第6-29页 |
1.1 简介 | 第6-9页 |
1.2 组装法 | 第9-10页 |
1.3 原位合成法 | 第10-19页 |
1.3.1 预置催化剂热CVD法 | 第10-16页 |
1.3.1.1 氧化铝模板 | 第10-13页 |
1.3.1.2 多孔硅及二氧化硅 | 第13-14页 |
1.3.1.3 平基板 | 第14-16页 |
1.3.2 浮动催化剂法 | 第16-17页 |
1.3.2.1 二茂铁 | 第16-17页 |
1.3.2.2 酞菁铁 | 第17页 |
1.3.3 增强CVD法 | 第17-18页 |
1.3.4 生长机理 | 第18-19页 |
1.4 性能与应用 | 第19-21页 |
1.4.1 场发射性能 | 第19-20页 |
1.4.2 储氢性能 | 第20页 |
1.4.3 超疏水性与疏油性 | 第20页 |
1.4.4 红外探测器 | 第20-21页 |
1.4.5 传感器 | 第21页 |
1.4.6 电极材料 | 第21页 |
1.5 研究目的 | 第21-22页 |
参考文献 | 第22-29页 |
第二章 测试表征方法基本原理简介 | 第29-32页 |
2.1 透射电镜(TEM) | 第29页 |
2.2 扫描电镜(SEM)和能量色散谱(EDS) | 第29页 |
2.3 激光拉曼光谱分析 | 第29-30页 |
2.4 原子力显微镜(AFM) | 第30-31页 |
参考文献 | 第31-32页 |
第三章 氧化铝模板的制备与表征 | 第32-39页 |
3.1 前言 | 第32-33页 |
3.2 实验 | 第33-34页 |
3.2.1 实验材料及所用化学试剂 | 第33页 |
3.2.2 实验仪器 | 第33-34页 |
3.2.3 实验过程 | 第34页 |
3.3 结果与讨论 | 第34-37页 |
3.3.1 SEM和TEM结果 | 第34-36页 |
3.3.2 AFM结果 | 第36-37页 |
3.4 小结 | 第37页 |
参考文献 | 第37-39页 |
第四章 氧化铝模板上纳米碳管的生长 | 第39-54页 |
4.1 前言 | 第39页 |
4.2 实验 | 第39-40页 |
4.2.1 实验原料与器材 | 第39页 |
4.2.2 实验过程 | 第39-40页 |
4.3 结果与讨论 | 第40-52页 |
4.3.1 一次氧化AAO模板纳米碳管的生长 | 第40-45页 |
4.3.1.1 镀钴时间对AAO模板上含钴量的影响 | 第40-43页 |
4.3.1.2 纳米碳管的表征 | 第43-45页 |
4.3.2 二次氧化AAO上定向纳米碳管的快速生长 | 第45-50页 |
4.3.2.1 时间的影响 | 第46-48页 |
4.3.2.2 不同气体流量下碳管的生长情况 | 第48-50页 |
4.3.3 超声切短 | 第50-52页 |
4.4 小结 | 第52页 |
参考文献 | 第52-54页 |
第五章 硅上定向纳米碳管的生长及其微结构表征 | 第54-63页 |
5.1 前言 | 第54页 |
5.2 实验材料与方法 | 第54页 |
5.3 实验结果与分析 | 第54-62页 |
5.3.1 Fe催化剂的处理与表征 | 第54-55页 |
5.3.2 纳米碳管的SEM表征 | 第55-56页 |
5.3.3 纳米碳管的TEM观察 | 第56-62页 |
5.4 小结 | 第62页 |
参考文献 | 第62-63页 |
第六章 结论 | 第63-64页 |
硕士生期间发表的论文及申请的专利 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |