电子束蒸发氧化钨、氧化镍薄膜的制备与电致变色智能窗的研究
| 第一章 文献综述 | 第1-31页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·电致变色的材料与用途 | 第10-14页 |
| ·电致变色的材料 | 第10-12页 |
| ·电致变色材料的用途 | 第12-14页 |
| ·氧化钨、氧化镍等电致变色机理 | 第14-17页 |
| ·电致变色薄膜制备方法与特性 | 第17-23页 |
| ·蒸发法 | 第17-19页 |
| ·溅射法 | 第19-20页 |
| ·CVD法 | 第20-21页 |
| ·Sol-Gel法 | 第21-22页 |
| ·其它方法 | 第22-23页 |
| ·电致变色智能窗模型的结构与特性 | 第23-30页 |
| ·基本结构 | 第23-26页 |
| ·透明导电层 | 第26页 |
| ·电致变色层 | 第26-27页 |
| ·离子导体层 | 第27-29页 |
| ·对电极层 | 第29-30页 |
| ·本论文选题目的和意义 | 第30-31页 |
| 第二章 实验 | 第31-38页 |
| ·实验设备 | 第32-34页 |
| ·电子束蒸发实验设备 | 第32-33页 |
| ·电致变色电化学测试系统 | 第33-34页 |
| ·测试方法 | 第34-35页 |
| ·X射线衍射 | 第34页 |
| ·扫描电镜SEM | 第34-35页 |
| ·可见光透射光谱 | 第35页 |
| ·电化学性能 | 第35页 |
| ·氧化钨、氧化镍、铌酸锂薄膜的制备 | 第35-38页 |
| ·电子束蒸发用靶材的制备 | 第35-36页 |
| ·电致变色薄膜样品制备 | 第36-38页 |
| 第三章 氧化钨薄膜的电致变色性能 | 第38-52页 |
| ·氧化钨薄膜结构与热处理关系 | 第39-42页 |
| ·热处理前后不同薄膜结构与薄膜变色光性能的关系 | 第42-48页 |
| ·氧化钨薄膜电致变色效果 | 第48-49页 |
| ·氧化钨薄膜电致变色过程中的I-V关系 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第四章 氧化镍薄膜的电致变色性能 | 第52-66页 |
| ·氧化镍薄膜结构与X射线衍射 | 第53-54页 |
| ·不同热处理温度与氧化镍薄膜变色光性能的关系 | 第54-60页 |
| ·氧化镍薄膜电致变色效果 | 第60-63页 |
| ·氧化镍薄膜电致变色过程中的I-V关系 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第五章 电致变色智能窗器件结构与性能 | 第66-76页 |
| ·半固态智能窗器件结构 | 第67-68页 |
| ·半固态智能窗器件电致变色性能 | 第68-71页 |
| ·全固态智能窗器件结构与性能的关系 | 第71-75页 |
| ·小结 | 第75-76页 |
| 第六章 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第86页 |
