快速热扩散炉及快速扩散的研究
| 中英摘要 | 第1-8页 |
| 1 前言 | 第8-27页 |
| ·太阳能与环境保护 | 第8-9页 |
| ·太阳能 | 第8页 |
| ·环境保护 | 第8-9页 |
| ·太阳电池和光伏发电 | 第9-13页 |
| ·太阳电池 | 第9-10页 |
| ·光伏发电 | 第10-13页 |
| ·晶体硅太阳电池的发展现状 | 第13-17页 |
| ·商业化晶体硅太阳电池技术 | 第13-15页 |
| ·丝网印刷技术 | 第13-14页 |
| ·埋栅电极技术 | 第14-15页 |
| ·实验室晶体硅太阳电池技术 | 第15-17页 |
| ·多晶硅的各向同性腐蚀 | 第15-16页 |
| ·选择性发射极结构 | 第16-17页 |
| ·快速热处理在半导体制造业中的应用 | 第17-21页 |
| ·RTP工艺概述 | 第18-19页 |
| ·RTD炉和常规热扩散设备的比较 | 第19-21页 |
| ·RTP硅太阳电池研究历史及现状 | 第21-26页 |
| ·RTP晶体硅太阳电池的主要制造技术 | 第22-23页 |
| ·RTP晶体硅太阳电池的效率 | 第23-26页 |
| ·选题 | 第26-27页 |
| 2 理论分析 | 第27-37页 |
| ·太阳电池的基本知识 | 第27-31页 |
| ·晶体硅太阳电池的工作原理 | 第27-29页 |
| ·转换效率及其影响因数 | 第29-31页 |
| ·快速热扩散的定性模型 | 第31-33页 |
| ·PID控制理论 | 第33-37页 |
| ·比例调节 | 第33-34页 |
| ·积分调节 | 第34-35页 |
| ·微分调节 | 第35-37页 |
| 3 快速热扩散炉的研制 | 第37-48页 |
| ·快速热扩散炉的设计 | 第37-41页 |
| ·石英部分 | 第37-38页 |
| ·温控系统 | 第38-39页 |
| ·气源系统 | 第39页 |
| ·保温部分 | 第39页 |
| ·冷却系统 | 第39-40页 |
| ·加热系统 | 第40-41页 |
| ·机体 | 第41页 |
| ·快速热扩散炉的主要参数 | 第41-46页 |
| ·升温特性 | 第41-42页 |
| ·温控特性 | 第42-44页 |
| ·碘钨灯的功率密度和能量传输 | 第44-46页 |
| ·碘钨灯的功率密度 | 第44-46页 |
| ·腔体内的能量传输 | 第46页 |
| ·讨论 | 第46-48页 |
| 4 实验 | 第48-54页 |
| ·多晶硅表面织构 | 第48-50页 |
| ·腐蚀原理 | 第49页 |
| ·实验设计 | 第49-50页 |
| ·快速热扩散 | 第50-54页 |
| ·旋涂磷胶 | 第50-52页 |
| ·涂胶 | 第50-51页 |
| ·去胶 | 第51-52页 |
| ·丝印磷浆 | 第52-54页 |
| ·丝网印刷 | 第52-53页 |
| ·印刷磷浆 | 第53-54页 |
| 5 结果和讨论 | 第54-66页 |
| ·多晶硅酸腐蚀的研究 | 第54-56页 |
| ·实验结果与分析 | 第54-56页 |
| ·实验结果讨论 | 第56页 |
| ·快速热扩散的特性 | 第56-66页 |
| ·快速热扩散参数测量的方法 | 第57-58页 |
| ·阳极氧化去层法 | 第57页 |
| ·方块电阻的检测 | 第57-58页 |
| ·旋涂磷胶的RTD扩散结果 | 第58页 |
| ·丝印Ferro磷浆的RTD扩散结果 | 第58-62页 |
| ·2×4小片的RTD扩散结果 | 第58-60页 |
| ·103×103大片的RTD扩散结果 | 第60-62页 |
| ·实验结果讨论 | 第62-66页 |
| ·RTD与CFD扩散时间的比较 | 第62-63页 |
| ·RTD与CFD扩散杂质分布的比较 | 第63-64页 |
| ·RTD与CFD的功耗比较 | 第64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 6 结论 | 第66页 |
| 展望 | 第66-67页 |
| 后记 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 附图1 | 第76-77页 |
| 附图2 | 第77页 |
