中文摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-9页 |
1 文献综述 | 第9-26页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 VO_2薄膜的制备方法 | 第9-16页 |
1.3 VO_2薄膜典型性质 | 第16-20页 |
1.4 二氧化钒的晶体结构 | 第20-22页 |
1.5 应用前景 | 第22-23页 |
1.6 VO_2薄膜的研究现状 | 第23-24页 |
1.7 本论文研究内容与创新 | 第24-25页 |
1.8 本章小结 | 第25-26页 |
2 二氧化钒制备方案及热力学计算分析 | 第26-32页 |
2.1 引言 | 第26页 |
2.2 二氧化钒制备方案分析 | 第26页 |
2.3 制备二氧化钒反应的热力学计算分析 | 第26-30页 |
2.4 各种方案比较及选取 | 第30-31页 |
2.5 本章小结 | 第31-32页 |
3 二氧化钒薄膜制备及实验过程 | 第32-39页 |
3.1 引言 | 第32页 |
3.2 无机溶胶—凝胶法制备二氧化钒薄膜过程 | 第32-36页 |
3.3 电阻温度特性测定过程 | 第36-38页 |
3.4 本章小结 | 第38-39页 |
4 二氧化钒薄膜制备的实验研究 | 第39-67页 |
4.1 前言 | 第39页 |
4.2 初步探索实验研究 | 第39-54页 |
4.2.1 V_2O_5水淬成胶实验 | 第39-40页 |
4.2.2 V_2O_5胶体热重分析 | 第40-41页 |
4.2.3 V_2O_5溶胶旋转涂膜实验 | 第41-44页 |
4.2.4 V_2O_5薄膜扫描电镜分析 | 第44-45页 |
4.2.5 V_2O_5薄膜干燥晶化实验 | 第45-47页 |
4.2.6 V_2O_5薄膜热处理初步实验 | 第47-53页 |
4.2.7 X射线衍射分析 | 第53-54页 |
4.3 正交实验研究 | 第54-65页 |
4.3.1 氢气还原V_2O_5薄膜原理 | 第54-55页 |
4.3.2 V_2O_5薄膜普通玻璃衬底H_2还原正交试验 | 第55-58页 |
4.3.3 V_2O_5薄膜石英衬底H_2还原正交试验 | 第58-62页 |
4.3.4 V_2O_5薄膜石英衬底N_2分解正交试验 | 第62-65页 |
4.4 本章小结 | 第65-67页 |
5 二氧化钒薄膜相变性能的研究 | 第67-71页 |
5.1 引言 | 第67页 |
5.2 VO_2薄膜相变温度研究 | 第67页 |
5.3 VO_2薄膜相变滞后温度的研究 | 第67-68页 |
5.4 VO_2薄膜相变电阻突变特性的研究 | 第68-69页 |
5.5 VO_2薄膜的相变稳定性 | 第69-70页 |
5.6 本章小结 | 第70-71页 |
6 几种主要二氧化钒薄膜制备技术的比较 | 第71-76页 |
6.1 引言 | 第71页 |
6.2 几种主要二氧化钒薄膜制备技术的比较 | 第71-73页 |
6.3 本文VO_2薄膜与纯VO_2薄膜相变性能差异机理解释 | 第73-74页 |
6.4 本章小结 | 第74-76页 |
7 结论 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
致谢 | 第84-85页 |
附录 | 第85页 |