掺铒光波导薄膜的制备与特性研究
| 第一章 绪论 | 第1-12页 |
| §1．1 引言 | 第7-8页 |
| §1．2 国内外研究进展及常见铒掺杂方法 | 第8-11页 |
| §1．3 本课题拟采用的实验方法 | 第11-12页 |
| 第二章 薄膜制备的离子束增强沉积工艺 | 第12-16页 |
| §2．1 离子束增强沉积概述 | 第12页 |
| §2．2 实验设备 | 第12-13页 |
| §2．3 薄膜的制备工艺 | 第13-16页 |
| 第三章 薄膜的特性表征 | 第16-29页 |
| §3．1 薄膜厚度及沉积速率及其形貌 | 第16-18页 |
| §3．2 薄膜的成分 | 第18-20页 |
| §3．3 薄膜的结构分析 | 第20-29页 |
| 第四章 薄膜的光学特性 | 第29-38页 |
| §4．1 发光机理 | 第29-32页 |
| §4．2 薄膜的发射光谱 | 第32-36页 |
| §4．3 发光强度与退火温度关系 | 第36页 |
| §4．4 发光强度与功率关系 | 第36-38页 |
| 第五章 电子束蒸发沉积制备掺铒薄膜 | 第38-44页 |
| §5．1 电子束蒸发沉积镀膜的机理 | 第38页 |
| §5．2 实验设备 | 第38-40页 |
| §5．3 蒸发用原料的制备 | 第40页 |
| §5．4 实验参数 | 第40-41页 |
| §5．5 实验结果 | 第41-44页 |
| 第六章 结论与讨论 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 发表论文情况 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48页 |
