高介电常数高分子复合材料研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-12页 |
第一章 绪论 | 第12-26页 |
·电活性高分子简介 | 第12-14页 |
·电活性高分子的研究现状及其发展 | 第14-15页 |
·电活性高分子的电介质物理基础 | 第15-21页 |
·电介质 | 第15页 |
·电介质极化 | 第15-17页 |
·电介质的重要特征 | 第17-18页 |
·机电转换领域对EAP 的介电性能要求 | 第18-21页 |
·聚合物基高介电常数复合材料 | 第21-23页 |
·陶瓷填充聚合物基高介电常数复合材料 | 第21页 |
·碳纳米管填充聚合物基高介电常数复合材料 | 第21-22页 |
·高介电常数全有机复合材料 | 第22-23页 |
·本课题研究背景及其内容 | 第23-24页 |
·高介电常数高分子复合材料发展背景 | 第23-24页 |
·本课题的研究内容 | 第24页 |
·各章节内容安排 | 第24-26页 |
第二章 酞菁铜齐聚物的合成与改性 | 第26-38页 |
·前言 | 第26-27页 |
·酞菁铜齐聚物合成 | 第27-28页 |
·主要试剂 | 第27页 |
·合成反应方程式 | 第27页 |
·合成反应步骤 | 第27-28页 |
·产物纯化及其后处理 | 第28页 |
·酞菁铜齐聚物改性 | 第28-29页 |
·主要试剂 | 第28页 |
·合成反应示意图 | 第28页 |
·合成反应步骤 | 第28-29页 |
·产物纯化及其后处理 | 第29页 |
·表征手段与仪器 | 第29-31页 |
·CuPc 中羧基含量的测定 | 第29-30页 |
·FT-IR 分析 | 第30页 |
·~1H-NMR 分析 | 第30页 |
·ICP 分析 | 第30页 |
·XRD 分析 | 第30页 |
·介电性能分析 | 第30-31页 |
·结果分析与讨论 | 第31-36页 |
·CuPc 中羧基含量的测定 | 第31-33页 |
·XRD 分析 | 第33页 |
·FT-IR 分析 | 第33-34页 |
·~1H-NMR 分析 | 第34页 |
·ICP 分析 | 第34-35页 |
·介电性能分析 | 第35-36页 |
·本章小结 | 第36-38页 |
第三章 高分子复合材料的性能分析 | 第38-57页 |
·前言 | 第38-39页 |
·薄膜制备 | 第39-40页 |
·主要试剂 | 第39页 |
·复合材料薄膜制备步骤 | 第39页 |
·热压薄膜制备步骤 | 第39-40页 |
·表征手段与仪器 | 第40-41页 |
·SEM 和TEM 分析 | 第40页 |
·DSC 分析 | 第40页 |
·XRD 分析 | 第40页 |
·介电性能分析 | 第40-41页 |
·铁电性能分析 | 第41页 |
·结果分析与讨论 | 第41-55页 |
·SEM 和TEM 分析 | 第41-44页 |
·DSC 分析 | 第44-46页 |
·XRD 分析 | 第46-48页 |
·溶液铸膜法制备薄膜的电性能分析 | 第48-50页 |
·添加量对薄膜材料介电性能影响分析 | 第50-51页 |
·热压膜工艺对薄膜材料介电性能影响分析 | 第51-54页 |
·两类基体复合材料铁电性能分析 | 第54-55页 |
·结论 | 第55-57页 |
第四章 MWNT/PVDF 的改性及其电性能分析 | 第57-67页 |
·前言 | 第57-58页 |
·MWNT 改性 | 第58-59页 |
·主要试剂 | 第58页 |
·MWNT 改性步骤 | 第58-59页 |
·MWNT 改性流程示意图 | 第59页 |
·薄膜制备 | 第59页 |
·表征手段与仪器 | 第59-60页 |
·FT-IR 分析 | 第59-60页 |
·羧基含量滴定分析 | 第60页 |
·SEM 和TEM 分析 | 第60页 |
·介电性能分析 | 第60页 |
·结果分析与讨论 | 第60-66页 |
·FT-IR 分析 | 第60-61页 |
·羧基含量测定 | 第61-62页 |
·SEM 和TEM 分析 | 第62-64页 |
·介电性能分析 | 第64-66页 |
·结论 | 第66-67页 |
第五章 总结与展望 | 第67-69页 |
·本文工作总结 | 第67-68页 |
·后继工作展望 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
在学期间发表的学术论文 | 第74页 |