| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1. 绪论 | 第10-18页 |
| ·ZnO的结构和性能 | 第10-14页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-11页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第11-13页 |
| ·ZnO的光谱和能级 | 第13-14页 |
| ·MgZnO三元合金薄膜 | 第14-17页 |
| ·MgO的物理性质及晶体结构 | 第14-15页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·Mg_xZn_(1-x)O单层薄膜的研究现状及应用前景 | 第16-17页 |
| ·本文研究内容和意义 | 第17-18页 |
| 2. 薄膜的制备与表征方法 | 第18-28页 |
| ·ZnO和Mg_xZn_(1-x)O的制备方法 | 第18-24页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第18页 |
| ·原子层外延生长法 | 第18-19页 |
| ·溅射法 | 第19-20页 |
| ·分子束外延法 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积法 | 第21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21-24页 |
| ·薄膜的性质检测 | 第24-28页 |
| ·表面形貌 | 第24-25页 |
| ·晶体结构 | 第25-26页 |
| ·光致发光性 | 第26页 |
| ·透射光谱 | 第26-28页 |
| 3. ZnO缓冲层及Mg_xZn_(1-x)O薄膜的制备过程及检测结果 | 第28-37页 |
| ·实验设备 | 第28页 |
| ·制备过程 | 第28-31页 |
| ·溶胶的制备 | 第29-30页 |
| ·衬底的清洗 | 第30页 |
| ·镀膜与预处理 | 第30-31页 |
| ·热处理 | 第31页 |
| ·光学特性的检测 | 第31-32页 |
| ·加入ZnO缓冲层对Mg_(0.05)Zn_(0.95)O薄膜光学性质的影响 | 第32-37页 |
| ·结晶质量比较 | 第33-34页 |
| ·透过率的比较 | 第34-35页 |
| ·光致发光的比较 | 第35-36页 |
| ·结论 | 第36-37页 |
| 4. 制备参量的改变对Mg_xZn_(1-x)O薄膜的影响 | 第37-44页 |
| ·改变Mg掺杂含量对Mg_xZn_(1-x)O薄膜光学特性的影响 | 第37-40页 |
| ·改变厚度对Mg_(0.05)Zn_(0.95)O薄膜光学特性的影响 | 第40-41页 |
| ·改变退火温度对Mg_(0.05)Zn_(0.95)O薄膜结晶质量的影响 | 第41-43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 5. 总结与展望 | 第44-46页 |
| ·总结 | 第44-45页 |
| ·展望 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
