光学薄膜在LCOS光学系统中的应用
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·光学薄膜的回顾与发展现状 | 第8-10页 |
| ·光学薄膜设计技术的回顾与发展状况 | 第10-12页 |
| ·薄膜制备技术的发展状况 | 第12-16页 |
| ·电阻蒸镀与电子束蒸镀 | 第13-14页 |
| ·离子辅助沉积 | 第14-15页 |
| ·等离子辅助沉积（PIAD） | 第15-16页 |
| ·离子束溅射 | 第16页 |
| ·磁控溅射 | 第16页 |
| ·LCOS显示技术现状及发展 | 第16-18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 光学薄膜设计的理论基础 | 第19-33页 |
| ·单色平面电磁波 | 第19-22页 |
| ·麦克斯韦方程 | 第19-20页 |
| ·平面电磁波 | 第20-21页 |
| ·光学导纳 | 第21-22页 |
| ·平面电磁波在单一界面的反射和折射 | 第22-25页 |
| ·E和H的边界条件 | 第22-23页 |
| ·反射定律和折射定律 | 第23-24页 |
| ·菲涅尔公式 | 第24-25页 |
| ·光学薄膜特性的理论计算 | 第25-31页 |
| ·单层介质薄膜的反射率 | 第25-29页 |
| ·多层介质薄膜的反射率 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第三章 LCOS光学系统薄膜的分析和设计 | 第33-72页 |
| ·LCOS光学系统简介 | 第33-34页 |
| ·LCOS光学系统薄膜的分析 | 第34-35页 |
| ·增透膜的设计 | 第35-44页 |
| ·单层增透膜 | 第36-37页 |
| ·双层增透膜 | 第37-39页 |
| ·设计的增透膜 | 第39-44页 |
| ·高反膜的设计 | 第44-56页 |
| ·多层介质高反射膜 | 第44-49页 |
| ·展宽高反射带的多层介质膜 | 第49-51页 |
| ·设计的高反膜 | 第51-56页 |
| ·干涉截止滤光片的设计 | 第56-65页 |
| ·干涉滤光片 | 第56-57页 |
| ·通带波纹的压缩 | 第57-59页 |
| ·设计的干涉截止滤光片 | 第59-65页 |
| ·冷光膜的设计 | 第65-67页 |
| ·偏振分束膜的设计 | 第67-70页 |
| ·材料的选定 | 第67页 |
| ·设计的偏振分光膜 | 第67-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第四章 膜系制备实践 | 第72-81页 |
| ·实验设备 | 第72-75页 |
| ·实验设备 | 第72-73页 |
| ·实验原理及方法 | 第73-74页 |
| ·影响因素 | 第74-75页 |
| ·制备的薄膜 | 第75-80页 |
| ·增透膜 | 第75-76页 |
| ·高反膜 | 第76-77页 |
| ·截止滤光片 | 第77-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 第五章 总结与展望 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-85页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
