| 提要 | 第1-9页 |
| 第1 章 绪论 | 第9-41页 |
| ·前言 | 第9-11页 |
| ·纳米材料研究概述 | 第11-13页 |
| ·纳米半导体 | 第13-22页 |
| ·纳米半导体材料 | 第13-14页 |
| ·纳米半导体材料的特殊性质 | 第14-16页 |
| ·半导体的光电化学性质 | 第16-17页 |
| ·半导体光解水制氢 | 第17-22页 |
| ·TiO_2 纳米材料基本性质 | 第22-27页 |
| ·TiO_2 的晶体结构 | 第22-23页 |
| ·TiO_2 的基本物理化学性质 | 第23页 |
| ·TiO_2 的光催化活性 | 第23-24页 |
| ·纳米TiO_2 的改性 | 第24-27页 |
| ·TiO_2 纳米管有序阵列研究进展 | 第27-38页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列的阳极氧化法制备简况 | 第28-30页 |
| ·阳极氧化法TiO_2 纳米管阵列的生长机理 | 第30-32页 |
| ·阳极氧化TiO_2 纳米管阵列的掺杂改性 | 第32-36页 |
| ·阳极氧化TiO_2 纳米管阵列的主要应用研究 | 第36-38页 |
| ·论文的主要研究内容和意义 | 第38-41页 |
| 第2 章 实验研究内容和分析方法 | 第41-50页 |
| ·实验研究内容及技术路线 | 第41-42页 |
| ·主要研究内容 | 第41页 |
| ·技术路线 | 第41-42页 |
| ·主要试剂及仪器 | 第42-44页 |
| ·实验中所使用的主要试剂 | 第42-43页 |
| ·实验中所使用的主要仪器 | 第43-44页 |
| ·样品制备 | 第44页 |
| ·样品的主要表征手段 | 第44-46页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第44-45页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FESEM） | 第45页 |
| ·紫外-可见光漫反射吸收光谱(UV-Vis) | 第45-46页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第46页 |
| ·显微Raman 光谱 | 第46页 |
| ·光电化学性能测试 | 第46-50页 |
| ·光电极制备 | 第47页 |
| ·光电流测试 | 第47-48页 |
| ·光伏测试 | 第48页 |
| ·光转化率 | 第48-49页 |
| ·光电化学分解水制氢 | 第49-50页 |
| 第3 章 TiO_2纳米管阵列的制备及性能研究 | 第50-78页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列的制备及表征 | 第50-52页 |
| ·试验装置 | 第50-51页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列的制备 | 第51页 |
| ·纳米管阵列的表征 | 第51-52页 |
| ·中性氟化物体系中TiO_2 纳米管阵列的制备及性质研究 | 第52-66页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列的表征及分析 | 第52-56页 |
| ·极距因素的影响 | 第56-60页 |
| ·电解液温度的影响 | 第60-65页 |
| ·光生电位和光电流测试 | 第65-66页 |
| ·酸性氟化物体系中TiO_2 纳米管阵列的制备及性质研究 | 第66-74页 |
| ·阳极氧化i-t 曲线 | 第66-67页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列的形貌分析 | 第67-68页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列热稳定性 | 第68-69页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列的XRD 分析 | 第69-70页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列的光吸收性能 | 第70-71页 |
| ·TiO_2 纳米管阵列的光电化学性能 | 第71-72页 |
| ·光生电位和光电流测试 | 第72-74页 |
| ·讨论 | 第74-76页 |
| ·生长机制 | 第74-75页 |
| ·光电性质 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第4 章 TC1 合金表面TiO_2基纳米管阵列的制备及性能研究 | 第78-113页 |
| ·引言 | 第78-79页 |
| ·TC1 表面氧化物纳米管阵列的制备及表征 | 第79-80页 |
| ·试验装置 | 第79页 |
| ·纳米管阵列的制备 | 第79页 |
| ·纳米管阵列的表征 | 第79-80页 |
| ·中性氟化物体系中TC1 表面纳米管阵列的制备及性质研究 | 第80-98页 |
| ·TC1 合金表面纳米管阵列的表征及分析 | 第80-90页 |
| ·极距的影响 | 第90-93页 |
| ·电解液温度的影响 | 第93-97页 |
| ·光生电位和光电流测试 | 第97-98页 |
| ·酸性氟化物体系中 TC1 合金表面纳米管阵列制备及性质研究 | 第98-110页 |
| ·阳极氧化 i-t 曲线 | 第99-100页 |
| ·不同阳极氧化电压的影响 | 第100-101页 |
| ·不同氧化时间的影响 | 第101-103页 |
| ·TC1 合金表面纳米管阵列热稳定性 | 第103-104页 |
| ·TC1 合金表面纳米管阵列的XRD 分析 | 第104-105页 |
| ·TC1 合金表面纳米管阵列的EDX 分析 | 第105-106页 |
| ·TC1 合金表面纳米管阵列的光吸收性能 | 第106-107页 |
| ·所制备纳米管阵列的光电化学性能 | 第107-108页 |
| ·光生电位和光电流测试 | 第108-110页 |
| ·讨论 | 第110页 |
| ·TC1 表面阳极氧化纳米管阵列的光分解水制氢研究 | 第110-111页 |
| ·本章小结 | 第111-113页 |
| 第5 章 TC4 合金表面TiO_2基纳米管阵列的制备及性能研究 | 第113-133页 |
| ·引言 | 第113页 |
| ·TC4 合金表面纳米管阵列的制备及表征 | 第113-115页 |
| ·试验装置 | 第113-114页 |
| ·纳米管阵列的制备 | 第114页 |
| ·纳米管阵列的表征 | 第114-115页 |
| ·实验结果分析及讨论 | 第115-121页 |
| ·不同阳极氧化电压的影响 | 第116-117页 |
| ·不同阳极氧化时间的影响 | 第117-119页 |
| ·纳米管阵列的EDX 和XPS 分析 | 第119-121页 |
| ·纳米管阵列的生长过程分析 | 第121页 |
| ·不同电解液温度的影响 | 第121-125页 |
| ·不同电解液温度对应产物的形貌结构 | 第121-122页 |
| ·不同电解液温度对应产物的结晶性能 | 第122-123页 |
| ·不同电解液温度对应产物的光学性质 | 第123-124页 |
| ·不同电解液温度对应产物的光电化学性质 | 第124-125页 |
| ·纳米管阵列的热稳定性 | 第125-131页 |
| ·纳米管阵列高温热处理后产物形貌 | 第125-127页 |
| ·纳米管阵列高温热处理后产物XRD 分析 | 第127-128页 |
| ·纳米管阵列高温热处理后的光学性能 | 第128-129页 |
| ·纳米管阵列高温热处理后产物光电化学性能 | 第129-131页 |
| ·本章小结 | 第131-133页 |
| 第6 章 TiO_2纳米管阵列膜的掺杂改性研究 | 第133-148页 |
| ·引言 | 第133-134页 |
| ·硫掺杂TiO_2 纳米管阵列的制备 | 第134-135页 |
| ·硫掺杂TiO_2 纳米管阵列的表征 | 第135-140页 |
| ·硫掺杂TiO_2 纳米管阵列的形貌分析 | 第135-136页 |
| ·硫掺杂TiO_2 纳米管阵列的XRD 分析 | 第136-138页 |
| ·硫掺杂TiO_2 纳米管阵列的 XPS 分析 | 第138-139页 |
| ·硫掺杂TiO_2 纳米管阵列的EDX 分析 | 第139-140页 |
| ·硫掺杂TiO_2 纳米管阵列的性质研究 | 第140-145页 |
| ·光吸收特性 | 第140-141页 |
| ·光电化学性质 | 第141-144页 |
| ·光生电位和光电流测试 | 第144-145页 |
| ·光解水制氢 | 第145页 |
| ·讨论 | 第145-146页 |
| ·本章小结 | 第146-148页 |
| 第7 章 结论与展望 | 第148-153页 |
| ·主要结论 | 第148-151页 |
| ·主要创新点 | 第151-152页 |
| ·工作展望 | 第152-153页 |
| 参考文献 | 第153-175页 |
| 研究生期间主要学术成果 | 第175-178页 |
| 致谢 | 第178-179页 |
| 中文摘要 | 第179-183页 |
| Abstract | 第183-187页 |
