中文摘要 | 第1-12页 |
英文摘要 | 第12-14页 |
第一章 金刚石合成的研究进展 | 第14-29页 |
·金刚石合成进展 | 第14-15页 |
·有机液体电沉积金刚石的研究进展 | 第15-22页 |
·高压直流电解法 | 第15-17页 |
·脉冲调制电源(pulse-modulated source)电解法 | 第17-18页 |
·低电压氧化沉积法 | 第18-19页 |
·低电压还原沉积法 | 第19页 |
·有机液体体系电还原沉积法 | 第19页 |
·有机液-水体系电还原沉积 | 第19页 |
·有机液体电沉积金刚石材料的机理 | 第19-21页 |
·高压电沉积金刚石及类金刚石材料的机理研究 | 第19-20页 |
·低电压沉积金刚石及类金刚石材料的机理研究 | 第20-21页 |
·存在问题与研究展望 | 第21-22页 |
·课题研究的目的与意义 | 第22-23页 |
参考文献 | 第23-29页 |
第二章 实验部分 | 第29-34页 |
·仪器与试剂 | 第29页 |
·实验方法 | 第29-33页 |
参考文献 | 第33-34页 |
第三章 结果与讨论 | 第34-66页 |
·四氯化碳为碳源常温常压下电化学还原制备金刚石 | 第34-43页 |
·离子液体与乙腈混合溶液中金刚石及类金刚石的合成 | 第34-39页 |
·结果分析 | 第34-38页 |
·结论 | 第38-39页 |
·离子液体([BMIM]BF_4)中超声波辅助反应 | 第39-40页 |
·结果分析 | 第39-40页 |
·结论 | 第40页 |
·碳酸丙二醇酯(PC)溶液中的金刚石合成 | 第40-43页 |
·结果分析 | 第41-43页 |
·结论 | 第43页 |
·氯仿为碳源在丙二醇酯溶液中常温常压电化学还原制金刚石 | 第43-54页 |
·恒电压沉积 | 第44-47页 |
·结果分析 | 第44-47页 |
·结论 | 第47页 |
·恒电流沉积 | 第47-54页 |
·结果分析 | 第47-53页 |
·反应机理探讨 | 第53-54页 |
·结论 | 第54页 |
·四氯化碳-氯仿混合碳源电化学还原制备金刚石及类金刚石材料 | 第54-56页 |
·结果分析 | 第54-56页 |
·结论 | 第56页 |
·以甲醇为碳源沉积金刚石及类金刚石薄膜 | 第56-60页 |
·甲醇-四丁基氯化铵体系 | 第56-58页 |
·结果与讨论 | 第57-58页 |
·甲醇-去离子水体系 | 第58-60页 |
·结果与讨论 | 第58-60页 |
·以氯仿和四氯化碳为碳源两电极体系沉积金刚石及类金刚石 | 第60-63页 |
·在氯仿-四丁基氯化铵体系中沉积 | 第60-61页 |
·结果与讨论 | 第60-61页 |
·在氯仿-四丁基氯化铵-无水三氯化铝体系中沉积 | 第61-62页 |
·结果与讨论 | 第61-62页 |
·四氯化碳-四丁基氯化铵体系中沉积 | 第62-63页 |
·结果与讨论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-66页 |
第四章 结论 | 第66-68页 |
致谢 | 第68-70页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第70页 |